Ситников Владимир Иванович (RU)

Использование: в технике полупроводникового производства на операциях подготовки поверхности пластин, например, при химико-механической полировке с последующей отмывкой их. Техническим результатом изобретения является снижение трудоемкости изготовления устройства за счет уменьшения его габаритов. Сущность изобретения: устройство содержит механизм для химико-механической полировки, механизм вертика...