Комаров Николай Валерьевич (RU)
Изобретатель Комаров Николай Валерьевич (RU) является автором следующих патентов:
![Устройство для двухсторонней очистки пластин Устройство для двухсторонней очистки пластин](https://img.patentdb.ru/i/200x200/38361e2e5ca7f609f6f33d7f51e293b9.jpg)
Устройство для двухсторонней очистки пластин
Изобретение относится к производству изделий электронной техники и может быть использовано, например, на операциях двухсторонней очистки пластин с помощью щеток и мегазвука. Устройство содержит установленные на основании разгрузочную и загрузочную кассеты, два механизма шагового перемещения их, механизм вертикального перемещения пластин из разгрузочной кассеты, механизм вертикального перемещения п...
2275972![Устройство для двухсторонней обработки пластин, например фотошаблонов Устройство для двухсторонней обработки пластин, например фотошаблонов](https://img.patentdb.ru/i/200x200/91e0fb28ed4e12c656432cb234bc626e.jpg)
Устройство для двухсторонней обработки пластин, например фотошаблонов
Изобретение относится к производству изделий электронной техники и может быть использовано для двухсторонней обработки пластин квадратной формы. Устройство для двухсторонней обработки пластин, например фотошаблонов, содержит установленные на основании разгрузочную и загрузочную кассеты, механизмы шагового перемещения их, первый и второй независимые транспортеры, блок двухсторонней гидромеханическо...
2328054![Устройство для двухсторонней индивидуальной обработки подложек квадратной или прямоугольной формы Устройство для двухсторонней индивидуальной обработки подложек квадратной или прямоугольной формы](https://img.patentdb.ru/i/200x200/4e3e48082cd06fa5e1885a3e57f6bc66.jpg)
Устройство для двухсторонней индивидуальной обработки подложек квадратной или прямоугольной формы
Изобретение относится к производству изделий электронной техники и может быть использовано для двухсторонней обработки стеклянных подложек квадратной или прямоугольной формы, используемых, например, в производстве при изготовлении фотошаблонов, а также жидкокристаллических экранов (ЖКЭ). Устройство содержит разгрузочную и приемную кассеты для подложек, установленные соответственно на механизмах...
2367526![Устройство для нанесения фоторезиста Устройство для нанесения фоторезиста](https://img.patentdb.ru/i/200x200/f857bc8ba0d7eec89e6aa0ba2d3c389a.jpg)
Устройство для нанесения фоторезиста
Изобретение относится к технике полупроводникового производства и может быть использовано при нанесении фоторезиста на полупроводниковые пластины, а также другие подложки в процессе выполнения операций фотолитографии. Сущность изобретения: устройство для нанесения фоторезиста на подложки, содержащее камеру для нанесения, подложкодержатель с приводом его вращения, установленный в ванне для нанесен...
2402102![Устройство для перфорирования тонкой металлической ленты Устройство для перфорирования тонкой металлической ленты](https://img.patentdb.ru/i/200x200/3643f4893676786f6ebf13ff57b6ef27.jpg)
Устройство для перфорирования тонкой металлической ленты
Изобретение относится к области обработки металлов давлением, в частности к технике перфорирования тонкой металлической ленты из драгоценного металла (золото, серебро), и может быть использовано для изготовления коммутационных шин фотопреобразователей (ФП) при сборке панелей солнечных батарей (СБ), а так же в полупроводниковом производстве в технологии изготовления микро- и наносистем. Механизм...
2500497![Способ и устройство отмывки и сушки подложек Способ и устройство отмывки и сушки подложек](https://img.patentdb.ru/i/200x200/bb24abd54c37efeb0b0711cddb51540d.jpg)
Способ и устройство отмывки и сушки подложек
Изобретение относится к технике индивидуальной обработки подложек и может быть использовано при производстве изделий электронной техники. Сущность изобретения заключается в том, что в способе отмывки и сушки подложек каждую подложку устанавливают на носитель, опускают в ванну отмывки с деионизованной водой до полного погружения подложки, затем медленно поднимают из воды в камеру сушки, отмывая е...
2510098