Корнеев Сергей Викторович (RU)
Изобретатель Корнеев Сергей Викторович (RU) является автором следующих патентов:

Интегральный повторитель напряжения
Изобретение относится к электронике, а именно к повторителям напряжения для усиления тока и преобразования импеданса в цепях электронных устройств, выполненным по интегральной технологии. Технический результат заключается в повышении быстродействия и точности. Устройство содержит первый-третий n-p-n транзисторы (Т) (1,4,12), первый-третий p-n-p Т (2,5,10), резисторы (Р) (9,11,13), коллекторные наг...
2289199
Интегральный операционный усилитель с токовой обратной связью
Изобретение относится к электронике, а именно к операционным усилителям (ОУ) с токовой обратной связью, выполненным по интегральной технологии для использования в устройствах обработки, усиления и аналого-цифрового преобразования видео- и радиосигналов. Технический результат: повышение точности. ОУ содержит входную цепь сдвига уровня (1), вход которой соединен с неинвертирующим входом (2) ОУ, пер...
2436224
Способ изготовления свч ldmos транзисторов
Изобретение относится к электронной полупроводниковой технике и обеспечивает создание способа изготовления мощных кремниевых СВЧ LDMOS транзисторов с уменьшенным шагом транзисторной ячейки, улучшенными частотными и энергетическими параметрами и повышенным процентом выхода годных структур. В способе изготовления СВЧ LDMOS транзисторов, включающем создание сквозных диффузионных истоковых p+-перемы...
2498448
Способ изготовления транзисторной свч ldmos структуры
Изобретение относится к электронной полупроводниковой технике и направлено на создание базового процесса изготовления мощных кремниевых СВЧ LDMOS структур и транзисторов на более доступном и менее дорогостоящем технологическом оборудовании, способных работать в диапазоне частот до 3,0-3,6 ГГц при повышенных напряжениях питания по стоку. В способе изготовления транзисторной СВЧ LDMOS структуры на...
2515124
Способ изготовления мощных кремниевых свч ldmos транзисторов
Изобретение относится к электронной технике. В способе изготовления мощных кремниевых СВЧ LDMOS транзисторов нанесенный на подзатворный диэлектрик поликремний покрывают тугоплавким металлом, высокотемпературным отжигом формируют полицид тугоплавкого металла на поверхности поликремния, методом фотолитографии создают из полицида тугоплавкого металла и расположенного под ним слоя поликремния полици...
2535283