Арефьев Николай Михайлович (RU)
Изобретатель Арефьев Николай Михайлович (RU) является автором следующих патентов:
Композиция для удаления с печатных форм фотохимически задубленных слоев на основе поливинилового спирта
Изобретение может быть использовано в полиграфической, электронной и радиотехнической промышленности для регенерации сеткотрафаретных печатных экранов, полученных с помощью фоторезистов. Окислительная композиция для удаления задубленного полимерного слоя на основе поливинилового спирта содержит, мас.%: метапериодат натрия или калия или дигидроортопериодат натрия или калия 20-70; соль или соли магн...
2316032Пленочный фоторезист для трафаретной печати и способ его изготовления
Изобретение относится к области изготовления пленочного фоторезиста и сеткотрафаретных экранов на его основе, используемых в производстве печатных плат, керамических корпусов интегральных схем, изделий полиграфической промышленности. Описывается пленочный фоторезист для трафаретной печати, содержащий гибкую подложку и полимерный очувствляемый копировальный слой на основе пленкообразующей композици...
2321037