МИШЕЛЬ Эрик (FR)

Изобретение относится к способу очистки поверхности материала с покрытием из органического вещества. В обрабатывающую камеру (2) вводят материал (4). Внутри камеры (2) давление составляет от 10 мбар до 1 бар. В камеру (2) подают газовый поток с содержанием кислорода не менее 90 об.%. Получают плазму пропусканием электрического разряда между поверхностью материала и электродом (5а, 5b, 5c, 5d, 5e,...