САВАНТ Суреш Г. (US)

Покрытие для нанесения на поверхности, подвергшиеся износу, представляет собой композицию, содержашую, по меньшей мере, один отверждаемый полиуретан и, по меньшей мере, один хлорированный полиолефин, которая обеспечивает получение улучшенной адгезии к поверхности, подвергшейся износу, в сопоставлении с адгезией композиции покрытия, содержащей тот же самый, по меньшей мере, один отверждаемый полиур...

Эпоксидный компонент, используемый в составе грунтовки представляет собой эпокси-функциональный удлиненный уретан, который содержит продукт реакции между: а) отверждаемым смолоподобным полиэпоксидом, содержащим простой диглицидиловый эфир бисфенола F; b) органическим соединением, содержащим несколько замещаемых атомов водорода; и с) полиизоцианатом, в котором молекулярная масса смолоподобного поли...

Настоящее изобретение относится к отверждаемым композициям. Описана отверждаемая композиция, содержащая: полимерный простой политиоэфир, и полиэпокси-соединение на основе многоосновной кислоты, в которой полимерный простой политиоэфир получают способом, включающим следующие стадии: проведение реакции первого политиола с соединением, имеющим одну эпокси-группу и вторую группу, отличную от эпокси-...

Изобретение относится к композиции селективно удаляемого промежуточного покрытия, включающей, по крайней мере, один полиамид с концевой аминогруппой, в которой среднечисленная молекулярная масса полиамида с концевой аминогруппой составляет от 500 до 100000 Da, а также к многослойному покрытию, содержащему первое покрытие(основное покрытие); второе покрытие (верхнее покрытие); и промежуточное покр...

Изобретение относится к полимерным композициям и их использованию. Композиция содержит простой политиоэфирный полимер с двумя концевыми меркаптановыми группами, имеющий формулу (I): , где каждый R1 представляет собой одно и то же и имеет формулу: (II) , где Х представляет собой О или S, а находится в диапазоне от 2 до 6, b находится в диапазоне от 1 до 5, с находится в диапазоне от 2 до 10, n рав...

Изобретение относится к получению смол на основе простого политиоэфира и амина и к получению композиций на их основе. Смола содержит 5-90 мас.% эпоксидной смолы на основе простого политиоэфира и 10-95 мас.% эпоксидной смолы. От 10 до 40% эквивалентов эпокси-групп кватернизированы и от 10 до 90% эквивалентов некватернизированных эпокси-групп прореагировали с амином. Изобретение позволяет получить...