Генцелев Александр Николаевич (RU)

Изобретение относится к измерительной технике. В изобретении топологические рентгенопоглощающие рисунки из металла с большим атомным номером формируются на обеих поверхностях несущей мембраны рентгенолитографического шаблона в виде симметричных пространственно совмещенных структур одинаковой толщины. Технический результат - уменьшение величины неплоскостности рабочей поверхности рентгенолитографич...

Использование: для проведения трафаретной рентгеновской литографии. Сущность: заключается в том, что зафиксированный на шаблонодержателе рентгеношаблон, содержащий сформированный на его рабочей поверхности топологический рисунок и зафиксированную на подложкодержателе обрабатываемую подложку с нанесенным на ее рабочую поверхность слоем рентгенорезиста, размещают на пути следования экспонирующего из...

Использование: для проведения трафаретной сканирующей синхротронной рентгеновской литографии. Сущность: заключается в том, что рентгеношаблон, содержащий несущую мембрану со сформированным на ее рабочей поверхности металлическим рентгенопоглощающим топологическим рисунком и обрабатываемую подложку с нанесенным на ее рабочую поверхность слоем рентгенорезиста размещают на пути следования синхротронн...

Способ проведения теневой трафаретной рентгеновской литографии, при котором рентгеношаблон, содержащий несущую мембрану со сформированным на ее рабочей поверхности металлическим рентгенопоглощающим топологическим рисунком и обрабатываемую подложку с нанесенным на ее рабочую поверхность слоем рентгенорезиста размещают на пути следования синхротронного излучения, причем ближе к источнику излучения р...

Использование: для изготовления литографической маски. Сущность: формируют на рабочей поверхности несущей мембраны топологический рентгенопоглощающий рисунок, при этом идентичный топологический рентгенопоглощающий рисунок из того же материала (или комбинации материалов), такой же толщины и пространственно совмещенный с первым формируют также и на противоположной стороне несущей мембраны. Техническ...

Использование: для изготовления литографической маски. Сущность заключается в том, что осуществляют формирование посредством рентгеновской литографии резистивной маски на рабочей поверхности несущей мембраны или обрабатываемой подложки, являющихся заготовками литографической маски и выполненных из материалов с низким атомным весом, и процессы электроосаждения через сформированную резистивную маску...

Изобретение может быть использовано для фильтрации электромагнитного излучения. Предлагаемая конструкция самоподдерживающейся металлической сеточной структуры (МСС) представляет собой тонкую перфорированную металлическую пленку, гальванически выращенную поверх массивного опорного кольца, входящего в состав исходной подложки, и своими краями крепящуюся к нему. Также предложен способ изготовления э...

Изобретение относится к LIGA-технологии, а точнее к способу изготовления LIGA-шаблона (ЛИГА-шаблона), используемого для проведения первой стадии LIGA-технологии - глубокой рентгеновской литографии. Технический результат - увеличение контрастности и рентгенопрозрачности LIGA-шаблона. Способ изготовления LIGA-шаблона, характеризующийся тем, что исходная подложка представляет собой формуемый из комп...

Изобретение относится к LIGA-технологии. Заявленный способ изготовления LIGA-шаблона характеризуется тем, что исходную подложку изготавливают из бериллиевой фольги, на рабочей поверхности подложки создают буферный (защитный) слой из проэкспонированного и задубленного негативного фоторезиста SU-8. Технический результат - обеспечение высокого уровня контрастности и рентгенопрозрачности. 3 ил.

Использование: для изготовления рентгенолитографических шаблонов. Сущность заключается в том, что при изготовлении рентгенолитографического шаблона осуществляют процессы формирования резистивной маски на рабочей поверхности исходной электропроводящей (или содержащей электропроводящие слои) подложки, процессы электроосаждения металлического рентгенопоглощающего слоя, при этом исходную подложку вып...

Изобретение относится к изготовлению рентгеношаблонов, преимущественно для «мягкой» литографии. Сущность изобретения: в рентгеношаблоне, представляющем собой рентгенопоглощающую структуру, сформированную на полимерной пленке, закрепленной на опорном кольце, опорное кольцо выполнено из двух и более колец, образующих собой пяльца, в которых зафиксирована полимерная пленка, а рентгенопоглощающая ст...

Изобретение относится к конструкции и способу изготовления рентгеношаблонов, преимущественно для «мягкой» рентгенолитографии (где основная часть экспонирующего излучения находится в спектральном диапазоне - λ≈2,5÷9 Å). Рентгеношаблон содержит опорное кольцо, прикрепленную к нему несущую мембрану со сформированным на ее рабочей поверхности топологическим ренгенопоглощающим рисунком, при этом опор...

Использование: для селекции электромагнитного излучения. Сущность изобретения заключается в том, что микроструктурный элемент выполнен в виде перфорированной сеточной структуры, объем которой в основном выполнен из полимерной пленки и вся ее поверхность, включая внутренние полости, металлизирована. Технический результат: обеспечение возможности формирования перфорированных пленок в диапазоне тол...