Гольденберг Борис Григорьевич (RU)

Изобретение относится к измерительной технике. В изобретении топологические рентгенопоглощающие рисунки из металла с большим атомным номером формируются на обеих поверхностях несущей мембраны рентгенолитографического шаблона в виде симметричных пространственно совмещенных структур одинаковой толщины. Технический результат - уменьшение величины неплоскостности рабочей поверхности рентгенолитографич...

Использование: для проведения трафаретной рентгеновской литографии. Сущность: заключается в том, что зафиксированный на шаблонодержателе рентгеношаблон, содержащий сформированный на его рабочей поверхности топологический рисунок и зафиксированную на подложкодержателе обрабатываемую подложку с нанесенным на ее рабочую поверхность слоем рентгенорезиста, размещают на пути следования экспонирующего из...

Использование: для проведения трафаретной сканирующей синхротронной рентгеновской литографии. Сущность: заключается в том, что рентгеношаблон, содержащий несущую мембрану со сформированным на ее рабочей поверхности металлическим рентгенопоглощающим топологическим рисунком и обрабатываемую подложку с нанесенным на ее рабочую поверхность слоем рентгенорезиста размещают на пути следования синхротронн...

Способ проведения теневой трафаретной рентгеновской литографии, при котором рентгеношаблон, содержащий несущую мембрану со сформированным на ее рабочей поверхности металлическим рентгенопоглощающим топологическим рисунком и обрабатываемую подложку с нанесенным на ее рабочую поверхность слоем рентгенорезиста размещают на пути следования синхротронного излучения, причем ближе к источнику излучения р...

Использование: для изготовления литографической маски. Сущность: формируют на рабочей поверхности несущей мембраны топологический рентгенопоглощающий рисунок, при этом идентичный топологический рентгенопоглощающий рисунок из того же материала (или комбинации материалов), такой же толщины и пространственно совмещенный с первым формируют также и на противоположной стороне несущей мембраны. Техническ...

Использование: для изготовления литографической маски. Сущность заключается в том, что осуществляют формирование посредством рентгеновской литографии резистивной маски на рабочей поверхности несущей мембраны или обрабатываемой подложки, являющихся заготовками литографической маски и выполненных из материалов с низким атомным весом, и процессы электроосаждения через сформированную резистивную маску...

Изобретение относится к рентгенолитографии, а именно к устройству «рисования» топологических рисунков, пространственно сформированным пучком экспонирующего рентгеновского излучения. С целью повышения точности формирования топологии резистивной маски при помощи рентгенолучевого генератора изображения содержащего, в общем случае, источник экспонирующего рентгеновского излучения; оперативную рентген...

Использование: для селекции электромагнитного излучения. Сущность изобретения заключается в том, что микроструктурный элемент выполнен в виде перфорированной сеточной структуры, объем которой в основном выполнен из полимерной пленки и вся ее поверхность, включая внутренние полости, металлизирована. Технический результат: обеспечение возможности формирования перфорированных пленок в диапазоне тол...