PatentDB.ru — поиск по патентным документам

ЧУЙ Клэренс (US)

Изобретатель ЧУЙ Клэренс (US) является автором следующих патентов:

Регулирование электромеханического поведения структур в устройстве микроэлектромеханических систем

Регулирование электромеханического поведения структур в устройстве микроэлектромеханических систем

Изобретение относится к тонкопленочным структурам в устройствах микроэлектромеханических систем и к электромеханическому и оптическому откликам этих тонкопленочных структур. Устройство микроэлектромеханических систем (МЭМС) содержит: подложку, электростатически смещаемый слой, электрод, размещенный поверх подложки, между электродом и смещаемым слоем расположен воздушный зазор, слой улавливания эле...

2348088

Модулятор с разделяемыми свойствами

Модулятор с разделяемыми свойствами

Изобретение относится к модуляторам с разделяемыми свойствами. Данный модулятор имеет зеркало, свешенное с гибкого слоя над полостью. Этот гибкий слой также образует опоры и опорные столбики для зеркала. Альтернативная конструкция модулятора с разделяемыми свойствами имеет зеркало, подвешенное над полостью. Этот модулятор опирается на опоры и опорные столбики. Опорные столбики содержат гибкий сл...

2351969

Способ и устройство для монтажа подложки в корпус

Способ и устройство для монтажа подложки в корпус

Изобретение относится к микроэлектромеханическим системам (МЭМС) и монтажу таких систем в корпусе. Технический результат направлен на усовершенствование конструкции изделий. Дисплейное устройство содержит матрицу подвижных зеркал, выполненных с возможностью интерферометрически модулировать свет. Причем это дисплейное устройство содержит прозрачную подложку; интерферометрический модулятор, содерж...

2374171

Модификация электромеханического поведения приборов

Модификация электромеханического поведения приборов

Микроэлектромеханические системы (MEMS) обычно включают в себя, по меньшей мере, один подвижный элемент в замкнутом корпусе, например пространственные модуляторы света. Технический результат направлен на повышение точности и повышение производительности. Устройство MEMS, содержит первую поверхность; вторую поверхность, смещенную относительно первой поверхности, чтобы сформировать корпус. По мень...

2378187

Модуляция массива по площади и уменьшение выводов в интерференционных модуляторах

Модуляция массива по площади и уменьшение выводов в интерференционных модуляторах

Изобретение относится к интерференционным модуляторам света. Модулятор света содержит массив, содержащий строки и столбцы интерференционных элементов отображения, множество линий соединения массива, сконфигурированных для передачи рабочих сигналов в элементы отображения, и множество переключателей. Каждый интерференционный элемент отображения является разделенным на подстроки одного или большего...

2378715


Способ и система для монтажа в корпус устройств на основе мэмс с внедренным газопоглотителем

Способ и система для монтажа в корпус устройств на основе мэмс с внедренным газопоглотителем

Изобретение относится к микроэлектромеханическим системам (МЭМС). Технический результат направлен на усовершенствование и создание новых изделий. Система для монтажа в корпус устройств на основе MEMS содержит подложку, устройство на основе микроэлектромеханических систем (МЭМС), сформированное на подложке, объединительную плату, уплотнение, расположенное вблизи периметра устройства на основе МЭМ...

2379227

Пространственный модулятор света с интегрированной оптической компенсационной структурой

Пространственный модулятор света с интегрированной оптической компенсационной структурой

Модулятор содержит подложку, множество индивидуально адресуемых светомодулирующих элементов, размещенных на подложке, рассеиватель и оптическую компенсационную структуру, отличающуюся от рассеивателя. Рассеиватель и оптическая компенсационная структура размещены между подложкой и множеством светомодулирующих элементов. Модулятор может содержать множество различных оптических компенсационных стру...

2379725

Управление электромеханической реакцией структур в устройстве на основе микроэлектромеханических систем

Управление электромеханической реакцией структур в устройстве на основе микроэлектромеханических систем

Изобретение относится к устройствам на основе микроэлектромеханических систем (MEMS-устройств). В частности, оно относится к тонкопленочным структурам в устройствах на основе микроэлектромеханических систем и к электромеханическим и оптическим откликам таких тонкопленочных структур. В одном из вариантов настоящим изобретением предлагается способ изготовления устройства на основе микроэлектромеха...

2381532

Система и способ защиты микроструктуры матрицы отображения с использованием прокладок в зазоре внутри устройства отображения

Система и способ защиты микроструктуры матрицы отображения с использованием прокладок в зазоре внутри устройства отображения

Устройство отображения содержит матрицу интерферометрических модуляторов, сформированных на подложке, заднюю пластину, уплотнение и одну или более прокладок. Уплотнение размещено между подложкой и задней пластиной вместе для монтажа матрицы модуляторов в корпус. Прокладки размещены между матрицей и пластиной. Прокладки предохраняют заднюю пластину от контакта с матрицей. Прокладки не контактируют...

2383043

Отражающее устройство отображения, имеющее доступный для просмотра дисплей на обеих сторонах

Отражающее устройство отображения, имеющее доступный для просмотра дисплей на обеих сторонах

Изобретение относится к интерферометрическим модуляторам и может быть использовано в дисплеях. Светомодулирующее устройство отображения, включающее множество пикселей, содержит первое средство пропускания света, второе средство пропускания света, отделенное от первого средства пропускания, первое средство частичного отражения света, размещенное на первом средстве пропускания, второе средство част...

2397519


Фотонные микроэлектромеханические системы и структуры

Фотонные микроэлектромеханические системы и структуры

Оптическое устройство содержит подложку, содержащую металл, пассивирующий слой, проводящий слой, диэлектрический слой, первый оптический слой, подвижный второй оптический слой. Пассивирующий слой расположен на подложке и обеспечивает электрическую изоляцию для предохранения других структур, расположенных на подложке, от закорачивания на подложку. Проводящий слой расположен на пассивирующем слое....

2413963