БАСВЕЛЛ Шен (US)
Изобретатель БАСВЕЛЛ Шен (US) является автором следующих патентов:
Способы и системы микрообработки
Изобретение относится к способам и системам микрообработки. Сущность изобретения: в способе формирования щели для подачи чернил в полупроводниковой подложке для струйной печатающей головки формируют первый конструктивный элемент путем многократного приложения разряда электрической энергии к первой стороне полупроводниковой подложки или путем нанесения абразивного материала на первую сторону полуп...
2383443