ГОТО Тецуя (JP)

Изобретение относится к аппарату магнетронного распыления для обработки подложки (варианты), установке магнетронного распыления и способу распыления для формирования пленки из материала мишени. Изобретение обеспечивает повышение скорости формирования пленки посредством увеличения плотности эрозии на мишени при каждом перемещении и продление срока службы мишени путем достижения однородного расходо...