Тихонович Т.В.

  Изобретение относится к химической технологии , в чааности к способам получения органополисиланов и может быть использовано при получении компонентов кремнийкарбидной керамики, материалов для фоторезистов. Изобретение позволяет повысить выход высокомолекулярных полимеров и упростить их выделение. Органополисипаны формулы -H-SiRV -(. де R , R , R , R -алкип, арил, циклоапкид .5 -...

 Использование: в микроэлектронике. Полиорганосиланы ф-лы 1, где R1-этиладамантил, этил(диметиладамантил), R2-метил, фенил, R3-метил, фенил, циклогексил, m 2 - 3000, n 2 - 3000, м:n 1:(0,1 - 10) для изготовления позитивной маски для фотолитографии. 2 табл., 1 ил. Структура соединения ф-лы 1: л Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создани...