PatentDB.ru — поиск по патентным документам

ТАО Тин (US)

Изобретатель ТАО Тин (US) является автором следующих патентов:

Негативные композиции, чувствительные к излучению, и печатающие материалы

Негативные композиции, чувствительные к излучению, и печатающие материалы

Изобретение относится к чувствительным к излучению негативным композициям и печатающим элементам на их основе. Предложена чувствительная к излучению композиция, включающая радикально полимеризуемый компонент, поглощающее ИК-излучение соединение, полимерное связующее и композицию инициатора бората иодония, способную к генерированию радикалов, достаточных для инициирования полимеризации свободно ра...

2436799