ТАО Тин (US)
Изобретатель ТАО Тин (US) является автором следующих патентов:

Негативные композиции, чувствительные к излучению, и печатающие материалы
Изобретение относится к чувствительным к излучению негативным композициям и печатающим элементам на их основе. Предложена чувствительная к излучению композиция, включающая радикально полимеризуемый компонент, поглощающее ИК-излучение соединение, полимерное связующее и композицию инициатора бората иодония, способную к генерированию радикалов, достаточных для инициирования полимеризации свободно ра...
2436799