ВИДРИГ Бено (CH)

Изобретение относится к слоистым системам, наносимым методом PVD, а именно дуговым испарением. Слоистая система содержит по меньшей мере один слой смешанных кристаллов многокомпонентного оксида состава (Ме11-хМе2х)2O3, где каждый из Ме1 и Ме2 означает по меньшей мере один из элементов Al, Cr, Fe, Li, Mg, Mn, Nb, Ti, Sb или V, и при этом элементы Ме1 и Ме2 отличаются друг от друга. При этом криста...

Изобретение относится к способам получения электроизолирующих слоев вакуумным нанесением покрытия. Согласно способу между по меньшей мере одним анодом и катодом дугового источника в содержащей реакционноспособный газ атмосфере осуществляют стабильный электрический дуговой разряд при приложении к поверхности мишени в основном перпендикулярного внешнего магнитного поля, которое имеет вертикальную с...

Изобретение относится к установке и способу плазменной вакуумной обработки. Обработку проводят в вакуумной камере (1), в которой размещены устройство для генерирования электрического низковольтного дугового разряда (15) (НВДР), носитель (7) изделия для приема и перемещения изделий (2) и по меньшей мере один ввод (8) для инертного и/или реакционного газа. НВДР состоит из катода (10) и анода (13),...

Изобретение относится к области плазменной обработки. При обработке поверхностей подложек или обрабатываемых деталей с помощью вакуумного плазменного разряда между анодом (9) и катодом (7) образуется и осаждается на анодной поверхности (21) твердое вещество (19), которое имеет более высокий удельный импеданс по постоянному току, чем удельный импеданс по постоянному току материала анода. По меньше...

Изобретение относится к области катодного искрового испарения. Способ импульсного прерывистого искрового разряда осуществляют посредством разряда от конденсатора и током разряда управляют посредством периодического подключения конденсатора. Между импульсами имеются временные интервалы отключения, в течение которых не протекает ток искрового разряда. В течение импульса, то есть в течение временны...