СИМИДЗУ Коитиро (JP)

Способ изготовления элемента, полученного с помощью микрообработки, содержит этапы, на которых: формируют слой резиста на штампе, экспонируют и проявляют слой резиста, сформированного на штампе, для формирования структуры в слое резиста; и помещают штамп, на котором выполнена структура в слое резиста, на электрод и выполняют травление штампа для формирования неровной формы на поверхности штампа,...

Противоотражающий оптический элемент содержит основание и множество структур, расположенных на поверхности основания и представляющих собой выемки или выступы конической формы. Структуры расположены с шагом, меньшим или равным длине волны света области длин волн в окружающей среде использования указанного элемента. Нижние участки структур, расположенных рядом друг с другом, соединены друг с дру...