Оринчев С.М.
Изобретатель Оринчев С.М. является автором следующих патентов:
Устройство для испарения материалов в вакууме
Изобретение относится к технологическому оборудованию для вакуумного напыления, в частности к устройствам для испарения материалов в вакууме. Для повышения надежности работы и упрощения конструкции устройство содержит тигель с нагревателем, расположенным на наружной поверхности тигля, и с выступом в днище, разделенным на две равные части с помощью кольца из теплоизоляционного теплостойког...
2010033Дозатор сыпучих материалов
Использование: дозирование сыпучих материалов, обладающих малой взаимной подвижностью, например люминофоров. Сущность изобретения: для оперативного независимого управления дозами сыпучих материалов при их перемешивании дозатор сыпучих материалов снабжен дополнительным шнековым транспортно-распределительным механизмом, причем винтовые направляющие обоих механизмов 1, 2 выполнены с возможно...
2011411Волновая муфта
Использование: в машиностроении, в конструкциях волновых муфт для передачи вращения в герметизированное пространство. Сущность: при вращении входной втулки начинает вращаться входной вал 7 совместно с планетарным генератором 4 волн. При увеличении передаваемого крутящего момента происходит окружное смещение кулачковой втулки 9 относительно винтовой поверхности 24, выполненной на торце 25...
2011908Устройство для нанесения металлических покрытий
Изобретение относится к экранирующим устройствам и может быть использовано в установках для нанесения резистивных покрытий. Устройство позволяет снижать и локализовать привносимую дефектность в процессе нанесения покрытий за счет отсоса загрязнений электретным экраном, охватывающим систему транспортирования устройства вдоль всего тракта перемещения, при этом не закрывая изделия от потока...
2023741Катодный узел для ионно-плазменного нанесения
Изобретение относится к нанесению тонких диэлектрических пленок путем ионного распыления материала в вакууме. Сущность изобретения: магнитная система выполнена в виде основных постоянных магнитов в форме швеллеров, установленных относительно друг друга одноименными полюсами, а внутри швеллеров расположены дополнительные постоянные магниты в форме швеллеров, установленные относительно друг...
2023744Шлюзовое устройство для вакуумных установок
Изобретение относится к вакуумной технике, в частности к элементам вакуумных и чистых технологических систем, и может найти применение для ввода объектов в камеру с чистой технологической средой или извлечения из нее без нарушения среды. Сущность изобретения заключается в том, что с возможностью осевого перемещения через подвижные контактные уплотнения на концах штока расположены упоры с...
2023748Платформа-дозатор
Использование: изобретение относится к измерительной технике, а более конкретно к платформам дозаторам. Сущность изобретения: с целью упрощения конструкции при повышении точности взвешивания и надежности силоизмерительные элементы выполнены в виде четырех балок равного сопротивления, закрепленных по краям одной из платформ и связанных с другой платформой. Между неподвижной и грузоподъемно...
2042117Способ напуска газа в вакуумную камеру
Изобретение относится к области технологической обработки материалов в вакууме, а более конкретно к способам напуска газа в вакуумную камеру. В основу изобретения положена задача обеспечить равномерность подачи газа по всей поверхности обрабатываемого материала при регулировании потоком газа. Эта задача решается тем, что в качестве пористого материала используют материал с эффективными ад...
2073745Устройство управления динамической системой
Изобретение относится к области машиностроения, а более конкретно к устройствам управления динамической системой. В основу изобретения положена задача повысить надежность работы, точность и оперативность управления. Эта задача решается тем, что измерительные преобразователи являются измерителями расстояния и выполнены в виде излучателей, установленных на основании в трех других базовых то...
2073904Способ охлаждения полупроводниковых пластин в вакууме
Использование: изобретение относится к области технологической обработки полупроводниковых пластин в вакууме, а более конкретно к способам охлаждения полупроводниковых пластин в вакууме. Сущность: в качестве теплопроводящего вещества используют легкоплавкий металл галлий, который в жидком виде располагают в поддоне, без дополнительного крепления, а между пластинами и поддоном располагают...
2076390Способ реализации технологического микроклимата в рабочем объеме в условиях молекулярного течения газа
Использование: разработка и эксплуатация рабочих объемов с технологическим микроклиматом в условиях молекулярного течения газа. Сущность изобретения: перед выполнением технологического процесса внутреннюю поверхность рабочего объема выкладывают съемными гофрированными листами, а после выполнения технологического процесса листы снимают и проводят очистку. Гофрированные листы могут иметь оп...
2086858Устройство для охлаждения подложек в ваккуме
Изобретение относится к области технологической обработки подложек в вакууме, а более конкретно к устройствам для охлаждения подложек в вакууме. Сущностью изобретения является то, что теплопроводящее вещество - жидкое и расположено в поддоне, между подложкой и жидким теплопроводящим веществом расположена фторопластовая пленка толщиной 0,05-0,1 мм, механически закрепленная на подложкодержа...
2089654Катодный узел
Задача повышения равномерности магнитного поля решается тем, что магнитная система выполнена в виде электромагнитов с замкнутым магнитным полем, каждый электромагнит содержит катушку индуктивности и сердечник, один конец которого связан с общим ярмом, а другой - с общим наконечником, число электромагнитов не менее трех и каждый из них имеет автономную систему питания. Устройство используе...
2089658Устройство катодного узла для нанесения пленок в вакууме
В основу изобретения положена задача повысить индукцию в рабочем зазоре и тем самым повысить скорость распыления материала. Эта задача решается тем, что вакуумная камера выполнена из немагнитного материала в форме прямоугольного параллелепипеда, у которого боковые стенки выполнены из диэлектрического материала, высота параллелепипеда составляет половину от ширины магнитной системы, котора...
2089659Катодный узел для получения тонких пленок в вакууме
Сущностью изобретения является катодный узел для получения тонких пленок в вакууме. При выполнении технологического процесса в вакууме происходит перемещение магнитной системы 2 по мере наращивания пленки на локальном участке посредством устройства перемещения 12. При этом ввиду предварительной регулировки зазоров в магнитной системе 2 с неподвижным ярмом 8 посредством перемещения сердечн...
2089660Катодный узел
Сущностью изобретения является катодный узел, в котором элементы напуска газа выполнены в виде двух блоков, расположенных по периферии электрода-мишени, совмещенного с подложкой. Блоки выполнены с возможностью последовательной подачи через них инертных и активных газов посредством золотниковой системы, магнитная система выполнена с возможностью регулирования индукции магнитного поля от ну...
2089661Система охлаждения подложек в вакууме
Сущность изобретения является система охлаждения подложек в вакууме, содержащая подложкодержатель, механические прижимы и теплопроводящее вещество. В объеме теплопроводящего вещества размещена рубашка охлаждения. Охлаждение осуществляется путем подачи охлаждающего вещества от рубашки на подложку посредством теплопроводящего вещества. 2 ил. Изобретение относится к области технологической о...
2089662Катодный узел с системой питания
Сущностью изобретения является устройство катодного узла с системой питания для нанесения тонких пленок, в котором анод выполнен в виде концентрических колец, связанных между собой диэлектрическими перемычками, число колец не менее трех, причем кольца выполнены с возможностью подачи на них потенциалов различной величины от системы питания. Отношение диаметра проволоки к диаметру кольца со...
2089663