Калинкин И.П.

 1. Способ получения тонких пленок плазменным напылением, включающий зажигание дугового разряда в атмосфере инертного газа между анодом и термокатодом, формирование контрагированной плазменной струи, введение в нее наносимого материала и конденсацию его паров на подложке, отличающийся тем, что, с целью повышения качества пленок за счет улучшения их электрофизических свойств и повышения про...

 Способ получения тонких пленок плазменным напылением по авт.св. N 1225273, отличающийся тем, что, с целью расширения технологических возможностей процесса при изготовлении ГИС, перед нанесением токопроводящего слоя формируют диэлектрический слой путем подачи в плазменную струю смеси испаряемого порошка и кислорода при степени двухфазности потока (0,3 - 0,5), причем в качестве испаряемого...

  Использование: получение материалов для оптоэлектроники. Сущность изобретения: способ получения фоточувствительной структуры заключается в последовательном термическом напылении слоя ZnSe и слоев CdTe толщиной 0,5-2,0 мкм и (ZnTe)1-y(Jn2Te3)y толщиной 1,0-5,0 мкм на стеклянную подложку с прозрачным электродом, нагретую до температуры 150-200°С с последующим отжигом в ваккуме при температ...