Способ получения тонких пленок плазменным напылением и устройство для его осуществления

Реферат

 

1. Способ получения тонких пленок плазменным напылением, включающий зажигание дугового разряда в атмосфере инертного газа между анодом и термокатодом, формирование контрагированной плазменной струи, введение в нее наносимого материала и конденсацию его паров на подложке, отличающийся тем, что, с целью повышения качества пленок за счет улучшения их электрофизических свойств и повышения производительности процесса, наносимый материал вводят в плазменную струю в виде порошка с размером частиц 30 - 45 мкм со скоростью 8 - 10 г/мин при скорости истечения плазменной струи 8 - 9 м/с, давлении инертного газа 5,3 - 8,0 Па и потенциале на аноде 300 - 400 В, затем плазменную струю подвергают повторному контрагированию, а конденсацию паров наносимого материала осуществляют при давлении 1,33 - 133 10-8 Па.

2. Устройство для получения тонких пленок плазменным напыливанием, содержащее испаритель, разрядную камеру, термокатод и анод с размещенными между ними соосно разрядной камере промежуточным электродом с конической полостью и диамагнитным расширителем плазмы, отличающееся тем, что, с целью повышения качества пленок за счет улучшения их электрофизических свойств и повышения производительности процесса, угол между образующей конической полости и осью симметрии разрядной камеры составляет 47 - 50o, а испаритель выполнен из немагнитного материала, размещен в расширителе плазмы и снабжен каналом для ввода порошка наносимого материала, а также плазменным и паровым каналами, геометрические оси которых параллельны геометрической оси расширителя, причем геометрические размеры каналов и расстояние между ними удовлетворяют выражениям 2 l1,2/d1,2 2,7, где d1,2 - диаметры парового и плазменного каналов соответственно; l1,2 - длины парового и плазменного каналов соответственно, см; ln - расстояние от точки пересечения геометрической оси каналов для ввода порошка с геометрической осью расширителя плазмы до парового канала, см.