PatentDB.ru — поиск по патентным документам

Попов Г.В.

Изобретатель Попов Г.В. является автором следующих патентов:

Способ регулирования дизельного двигателя, работающего по газожидкостному процессу

Способ регулирования дизельного двигателя, работающего по газожидкостному процессу

  Класс 46b-, 14. 4 93192 СССР 1 1, 1 Г ° .. и ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕтЕНИй К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Г. В. Попов и Б. К. Васильев СПОСОБ РЕГУЛИРОВАНИЯ ДИЗЕЛЬНОГО ДВИГАТЕЛЯ, РАБОТАЮЩЕГО HO ГАЗОЖИДКОСТНОМУ ПРОЦЕССУ Заявлено 1 апреля 1950 г. за ¹ 45/415370 в Госте нику СССР Опубликовано в сБ|оллетене нзобретвпнй» ¹!:з;а 1952 г. 1Лзвеств!ые способы регулирования не обеспечивают работу д...

93192

Устройство для регулирования двигателей внутреннего сгорания, работающих на смешанном топливе

Устройство для регулирования двигателей внутреннего сгорания, работающих на смешанном топливе

  № 93241 Класс 4бЬ-", 14 СССР ОПИСАНИЕ ИЗОЬГЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Г. В. Попав и Б. К. Васильев УСТРОЙСТВО ДЛЯ РЕГУЛИРОВАНИЯ ДВИГАТЕЛЕЙ ВНУТРЕННЕГО СГОРАНИЯ, РАБОТАЮЩИХ НА СМЕШАННОМ ТОПЛИВЕ Заявлеио 17 июля 1951 г. за ¹ 247,"444494 в Министерство путей соооикиия Устройство для регулирования двигателей внутреннего сгорания, работающих на смешанном топливе с воспламене...

93241

Способ уборки биологического урожая зерновых колосовых и утилизации незерновой части урожая

Способ уборки биологического урожая зерновых колосовых и утилизации незерновой части урожая

 Использование: в сельском хозяйстве, в частности в способах уборки биологического урожая зерновых колосовых и утилизации незерновой части урожая. Сущность изобретения: для более полного использования урожая производят скашивание всей части, прокатывание колосьев (происходит нарушение материнской связи зерна с колосом) и прикатывание стебелевой части (происходит измельчение стебелевой част...

2038738

Схема управления одногироскопного курсоуказателя (варианты)

Схема управления одногироскопного курсоуказателя (варианты)

 Использование: в схемах управления одногироскопных корректируемых курсоуказателей. Сущность изобретения: схема содержит два акселерометра 1, 2, два датчика момента 3, 4, гироскоп 5, платформу 6 гиростабилизатора, два функциональных устройства 7, 8, три сумматора 9, 10, 11, перемножитель 12 и три уставки 13, 14, 15. По второму варианту схема дополнительно содержит третье функциональное уст...

2063612

Устройство для нанесения фоторезиста на пластины

Устройство для нанесения фоторезиста на пластины

 Область использования изобретения: изобретение относится к полупроводниковому производству и может быть использовано при получении тонких покрытий из фоторезиста на пластинах. Сущность изобретения: технической задачей, решаемой при помощи предлагаемого устройства, является повышение качества покрытия посредством предотвращения на этапе нанесения дозы раствора фоторезиста механического кон...

2093921


Способ нанесения покрытий центрифугированием

Способ нанесения покрытий центрифугированием

 Использование: изобретение относится к полупроводниковому производству и может быть использовано при нанесении покрытий, например из фоторезиста, на пластины. Технической задачей изобретения является повышение равномерности слоя покрытия. Сущность изобретения: при формировании слоя фоторезиста наносят дозу раствора на вращающуюся со скоростью 5000-7000 об/мин пластину, а после полного пок...

2094903

Устройство для ориентации пластин

Устройство для ориентации пластин

 Изобретение может быть использовано при изготовлении полупроводниковых приборов, а также в машиностроении. Сущность: устройство для ориентации пластин содержит столик с наклонными соплами для создания воздушной прослойки, ограничители, датчики конечного положения, причем ограничители выполнены в форме конического гнезда, а наклонные сопла равномерно расположены по окружности и поочередно...

2098888

Устройство для ориентации пластин

Устройство для ориентации пластин

 Изобретение может быть использовано при изготовлении полупроводниковых приборов, а также в машиностроении. Сущность изобретения заключается в следующем. Устройство для ориентации пластин содержит наклонный столик с соплами и боковыми ограничителями, которые наклонены к поверхности столика, сопла выполнены трех видов: первые два расположены на осях, параллельных направлению транспортирован...

2099815

Устройство для ориентации пластин

Устройство для ориентации пластин

 Изобретение может быть использовано при изготовлении полупроводниковых приборов, а также в машиностроении. Сущность изобретения заключается в следующем. Устройство для ориентации пластин содержит столик с наклонными и одним вертикальным соплами для создания воздушной прослойки, ограничители, причем ограничители выполнены в виде усеченной многогранной пирамиды, нижним основанием которой яв...

2099816

Устройство для сушки и ориентированной подачи деталей

Устройство для сушки и ориентированной подачи деталей

 Изобретение относится к пищевой промышленности, машиностроению, электротехнике, а также может быть использовано и в других отраслях промышленности, где необходима сушка и ориентированная загрузка изделий на технологические операции. Устройство для сушки и ориентированной подачи деталей включает бункер в виде полого перфорированного цилиндра, с возможностью вращения вокруг продольной оси,...

2130890


Устройство для ориентации пластин

Устройство для ориентации пластин

 Использование: при изготовлении полупроводниковых пластин, а также в машиностроении. Сущность изобретения: устройство для ориентации пластин содержит столик с наклонными и одним вертикальным соплами для создания воздушной прослойки, ограничители, причем ограничители выполнены в форме конического гнезда. Наклонные сопла равномерно расположены по окружности и поочередно наклонены в противоп...

2131155

Способ получения покрытий из фоторезиста

Способ получения покрытий из фоторезиста

 Использование: микроэлектроника. Способ получения покрытия из фоторезиста заключается в нанесении дозы фоторезиста на подложки и формировании слоя путем вращения подложки. При формировании слоя на пластине-эталоне после 3-5 оборотов вращения анализируемый участок пластины освещают пучком параллельных монохроматичных лучей, фиксируют время между максимумами интенсивности отраженного света...

2136077

Устройство для сушки, ориентации и подачи изделий

Устройство для сушки, ориентации и подачи изделий

 Изобретение относится к машиностроению, электронике, пищевой и фармацевтической промышленности, а также может быть использовано и в других отраслях промышленности, где необходима сушка с ориентированной подачей изделий на технологические операции. Устройство для сушки, ориентации и подачи изделий включает барабан в виде полого перфорированного цилиндра, выполненного с возможностью вращени...

2151728

Способ охлаждения полупроводниковых пластин и устройство для его осуществления

Способ охлаждения полупроводниковых пластин и устройство для его осуществления

 Использование: в микроэлектронике на литографических операциях при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. Сущность изобретения заключается в следующем. В способе охлаждения полупроводниковых пластин между подложкодержателем и полупроводниковой пластиной размещают теплопроводящее вещество, в качестве которого используют газовую или воздушную прослойку, создаваему...

2153209

Способ контроля толщины пленки в процессе ее нанесения

Способ контроля толщины пленки в процессе ее нанесения

 Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и предназначено для неразрушающего контроля толщины пленок, в частности в устройствах для измерения и контроля толщины пленок фоторезиста, наносимых на вращающуюся полупроводниковую подложку в процессе центрифугирования в операциях фотолитографии. Сущность изобретения заключается в том, что пучок излучения с длиной волны падает на...

2157509


Динамически настраиваемый гироскоп

Динамически настраиваемый гироскоп

 Гироскоп предназначен для использования в области точного гироприборостроения. Гироскоп с газодинамическими опорами ротора содержит подвес и маховик, заключенные в герметичный кожух, внутри которого создается вакуум. Между кожухом и маховиком с подвесом имеется зазор, обеспечивающий свободу углового перемещения маховика относительно кожуха вокруг осей подвеса. Внутренний объем гироскопа,...

2157965

Способ контроля толщины пленки в процессе ее нанесения и устройство для его реализации

Способ контроля толщины пленки в процессе ее нанесения и устройство для его реализации

 Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и предназначено для неразрушающего контроля толщины и измерения разнотолщинности пленок, в частности в устройствах для нанесения фоторезиста в операциях фотолитографии. Сущность изобретения заключается в том, что пучок излучения с длиной нач волны падает на контролируемую подложку под углом , до и в процессе нанесения пленки регистр...

2158897

Способ получения покрытия из фоторезиста и устройство для его осуществления

Способ получения покрытия из фоторезиста и устройство для его осуществления

 Использование: микроэлектроника, на литографических операциях при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. Сущность изобретения: способ получения покрытия из фоторезиста включает нанесение на подложку дозы фоторезиста, формирование слоя и его предварительную подсушку. При этом подложка помещается на пневмовихревую воздушную прослойку, разгоняется до определенной с...

2158987

Устройство для снятия фаски при финишной обработке полупроводниковых пластин

Устройство для снятия фаски при финишной обработке полупроводниковых пластин

 Использование: при изготовлении полупроводниковых приборов, а также в машиностроении. Сущность изобретения: устройство состоит из корпуса, который содержит центральную - цилиндрическую и периферийную - кольцевую пневматические камеры, разделенные цилиндрической перегородкой, сообщающиеся с магистралями подачи сжатого воздуха через регулируемые пневмоклапаны, которые соединены с устройство...

2163408

Устройство для снятия фаски при финишной обработке полупроводниковых пластин

Устройство для снятия фаски при финишной обработке полупроводниковых пластин

 Использование: при изготовлении полупроводниковых приборов, а также в машиностроении. Сущность изобретения: корпус устройства для снятия фаски содержит центральную - цилиндрическую и периферийную - кольцевую пневматические камеры, разделенные цилиндрической перегородкой, сообщающиеся с магистралью подачи сжатого воздуха, привод вращения пластины выполнен в виде усеченного конического гнез...

2168796


Устройство для шлифовки полупроводниковых пластин

Устройство для шлифовки полупроводниковых пластин

 Изобретение может быть использовано при изготовлении полупроводниковых приборов, а также в машиностроении. Устройство состоит из корпуса, выполненного в виде цилиндра с центральным отверстием, диаметр которого больше диаметра обрабатываемых пластин. В корпусе предусмотрены внутренняя, средняя и периферийная концентрические кольцевые пневматические камеры, закрытые сверху круглой крышкой....

2175283

Устройство для шлифования полупроводниковых пластин

Устройство для шлифования полупроводниковых пластин

 Изобретение относится к машиностроению и может быть использовано при изготовлении полупроводниковых приборов. Устройство для шлифования состоит из корпуса, содержащего центральную - цилиндрическую, среднюю и периферийную - кольцевые пневматические камеры, разделенные цилиндрическими перегородками и сообщающиеся с магистралями подачи сжатого воздуха. Привод вращения пластины выполнен в вид...

2191674

Устройство охлаждения полупроводниковых пластин

Устройство охлаждения полупроводниковых пластин

 Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано на литографических операциях при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. Устройство охлаждения полупроводниковых пластин содержит корпус с периферийной пневмокамерой, соединенной с магистралью подачи газа или воздуха и с рабочей зоной с одной его внешней стороны для размещения пластины, сообщающей...

2193258

Линия фотолитографии

Линия фотолитографии

 Изобретение относится к области микроэлектроники. Предложена линия фотолитографии, включающая модуль загрузки пластин, модуль струйной очистки, модуль обработки парами ГМДС, модуль термостабилизации, модуль формирования фоторезистивной пленки, модуль термообработки, модуль выгрузки. Линия фотолитографии является переналаживаемой под конкретный технологический маршрут за счет того, что мод...

2201012

Устройство для нанесения покрытий на пластины

Устройство для нанесения покрытий на пластины

 Использование: при изготовлении полупроводниковых приборов, а также в машиностроении. Техническим результатом изобретения является снижение количества загрязняющих частиц, привносимых на пластину из воздуха. Сущность изобретения: устройство для нанесения покрытий на пластины содержит приводной столик с механизмом крепления пластины. Над столиком с зазором расположен защитный кожух, устано...

2217841