ГИНИЯТУЛЛИН МУНИР ХАКИМУЛЛОВИЧ
Изобретатель ГИНИЯТУЛЛИН МУНИР ХАКИМУЛЛОВИЧ является автором следующих патентов:
Полиэфирная композиция
и г Союз Советских Социалистимеских Республик ОП ИКАНИЕ ИЗОБРЕТЕН И (») 530047 К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 05.07.74 (21) 2041020/05 с присоединением заявки № (23) Приоритет (43) Опубликовано30.09.76.Бюллетень № З6 (45) Дата опубликования описания15.02.77 Ю (51) М. Кл. С 08 L 67/02 С 08 К 5/16 Государственный комитет Совета Мин...
530047
Композиция адгезионного слоя основы кинофотоматериалов
Союз Советских Социалистических Республик ОП И(".АНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ «>710014 Ф C (61) Дополнительное к авт. свид-ву Р1 М (2 (22) Заявлено 2301,78 (21) 2570528/23-04 с присоединением заявки N (23) Приоритет G 03 С 1/00 Государствеииый комитет СССР по делам изобре;еиий и открытий Опубликовано 150 1,80. Бюллетень ¹ 2 г Дата опубликования описания 1501.8...
710014![Композиция для адгезионного подслоя полиэтилентерефталатной подложки кинофотоматериалов1изобретение относится к композициям для адгезионного подслоя кинофотоматери— алов и может быть использовано в химико-фотографической промышленности.известна композиция для подслоирования полиэтилентерефталатной подложки, ак' тивированной коронным разрядом, включающая желатину, органические растворители и гидрофильные основания - naoh, haj^coa, nahcoj, и имеющая рн 9,5 и выше fl].недостатком известной композиции яв— пяеочзя то, что эмульсии с рн<9 после нанесения имеют неудовлетворительную адгезионную прочность к подпожке, подспсу- ъроввяной данной композицией.известны композш1вв для подслоирова— ння, полиэтилентерефталатной двухосноори— ентированной подложки кинофотопленок, используемые для по^^чения адгезионных слоев путем последовательного нанесения, включаклдне: x — сополимер терефтапевой кислоты с диэтиленгликолем и этиленглнколем; н - желатину', нитроцеллюлозу.^ 5to1520салициловую кислоту, метанол, воду и формальдегид [2j.адгезионные слои, полученные из этих композиций,' имеют удовлетворительное держание эмульсионного слоя к подложке^ толщина которой не превышает 75 мкм. увеличение толщины подложки до 100 мкм и более приводит к ухудшению адгезионных подслоя из указанных композиций. а а>& гезионная прочность эмульсионного слоя не— ' сколько улучшается при нанесении композв— ций на предварительно обработаннугокоронным разрядом поверхность подложки. но ввв— ду того, что получаемый из этой компоэвдни подслой состоит из двух слоев, улучшается только адгезионная прочность промежуточного слоя к подложке, а межоу промежуточным и желатяносодержашвм, а также желатинсодержашвм и эмульсвоя» ными слоями она остается нёудовлетворв»! «тельной.наиболее .'близкой к предлагаемой - лается композиция для подсловрованвя по](https://img.patentdb.ru/i/200x200/6c1071ce092b73e8363b0ec3e7ceed68.jpg "Композиция для адгезионного подслоя полиэтилентерефталатной подложки кинофотоматериалов1изобретение относится к композициям для адгезионного подслоя кинофотоматери— алов и может быть использовано в химико-фотографической промышленности.известна композиция для подслоирования полиэтилентерефталатной подложки, ак' тивированной коронным разрядом, включающая желатину, органические растворители и гидрофильные основания - naoh, haj^coa, nahcoj, и имеющая рн 9,5 и выше fl].недостатком известной композиции яв— пяеочзя то, что эмульсии с рн<9 после нанесения имеют неудовлетворительную адгезионную прочность к подпожке, подспсу- ъроввяной данной композицией.известны композш1вв для подслоирова— ння, полиэтилентерефталатной двухосноори— ентированной подложки кинофотопленок, используемые для по^^чения адгезионных слоев путем последовательного нанесения, включаклдне: x — сополимер терефтапевой кислоты с диэтиленгликолем и этиленглнколем; н - желатину', нитроцеллюлозу.^ 5to1520салициловую кислоту, метанол, воду и формальдегид [2j.адгезионные слои, полученные из этих композиций,' имеют удовлетворительное держание эмульсионного слоя к подложке^ толщина которой не превышает 75 мкм. увеличение толщины подложки до 100 мкм и более приводит к ухудшению адгезионных подслоя из указанных композиций. а а>& гезионная прочность эмульсионного слоя не— ' сколько улучшается при нанесении композв— ций на предварительно обработаннугокоронным разрядом поверхность подложки. но ввв— ду того, что получаемый из этой компоэвдни подслой состоит из двух слоев, улучшается только адгезионная прочность промежуточного слоя к подложке, а межоу промежуточным и желатяносодержашвм, а также желатинсодержашвм и эмульсвоя» ными слоями она остается нёудовлетворв»! «тельной.наиболее .'близкой к предлагаемой - лается композиция для подсловрованвя по")
Композиция для адгезионного подслоя полиэтилентерефталатной подложки кинофотоматериалов1изобретение относится к композициям для адгезионного подслоя кинофотоматери— алов и может быть использовано в химико-фотографической промышленности.известна композиция для подслоирования полиэтилентерефталатной подложки, ак' тивированной коронным разрядом, включающая желатину, органические растворители и гидрофильные основания - naoh, haj^coa, nahcoj, и имеющая рн 9,5 и выше fl].недостатком известной композиции яв— пяеочзя то, что эмульсии с рн<9 после нанесения имеют неудовлетворительную адгезионную прочность к подпожке, подспсу- ъроввяной данной композицией.известны композш1вв для подслоирова— ння, полиэтилентерефталатной двухосноори— ентированной подложки кинофотопленок, используемые для по^^чения адгезионных слоев путем последовательного нанесения, включаклдне: x — сополимер терефтапевой кислоты с диэтиленгликолем и этиленглнколем; н - желатину', нитроцеллюлозу.^ 5to1520салициловую кислоту, метанол, воду и формальдегид [2j.адгезионные слои, полученные из этих композиций,' имеют удовлетворительное держание эмульсионного слоя к подложке^ толщина которой не превышает 75 мкм. увеличение толщины подложки до 100 мкм и более приводит к ухудшению адгезионных подслоя из указанных композиций. а а>& гезионная прочность эмульсионного слоя не— ' сколько улучшается при нанесении композв— ций на предварительно обработаннугокоронным разрядом поверхность подложки. но ввв— ду того, что получаемый из этой компоэвдни подслой состоит из двух слоев, улучшается только адгезионная прочность промежуточного слоя к подложке, а межоу промежуточным и желатяносодержашвм, а также желатинсодержашвм и эмульсвоя» ными слоями она остается нёудовлетворв»! «тельной.наиболее .'близкой к предлагаемой - лается композиция для подсловрованвя по
ОП ИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕН ИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Союз Советски к Социалнстнчесиик Республик „i826261 (6! ) Дополнительное к авт. санд-ву (22)Заявлено28.08.79 (2!)2657930/23-04 с присоединением заявки М— (23)Приоритет Опубликовано 30.04.81. Бюллетень М 16 Дата опубликования описания 30.04.81 (5l)M. Кд. G 03 С 1/80 ВоударотевиныХ комитет CCCP до делам изобретеииХ и еткр...
826261
Способ изготовления подложки,преимущественно для кинофотоматериалов
Союз Советских Социалистических Респубики O П И С А Н И Е 933670 И ЗОБ РИТЕ Н ИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (6l ) Дополнительное к авт. саид-ву (22)Заявлено 15.07 ° 80 (21) 2957471/23-05 с присоединением заявки М— (23) Приоритет— Опубликовано 07. 06.82. Бюллетень .% 21 Дата опубликования описания 07. 06. 82 (51)М. Кл. С 08 Ю 5/18 С 08 L 27/08 С 03 С 1/76 1Ъаударств...
933670