C23C14/35 - с использованием магнитного поля, например распыление магнетроном

Магнетронное распылительное устройство с термоэлектронным ионизатором

Изобретение относится к пленочной микроэлектронике, в частности к магнетронным устройствам ионно-плазменного нанесения пленок материалов в производстве тонкопленочных элементов интегральных микросхем. Устройство позволяет повысить эффективность и стабильность работы в процессе нанесения пленки при рабочем давлении 0,05-Па. С этой целью в катоде выполняют полость, в которой устанавливают...

1665717

Устройство для ионно-плазменного распыления материалов в вакууме

Изобретение относится к нанесению покрытий в вакууме и может быть использовано для создания изделий электронной техники, радиотехники, оптики и др. С целью увеличения коэффициента полезного использования распыленного материала в устройстве, содержащем магнетронную систему, состоящую из кода с мишенью и полюсных наконечников и анода, а также подложкодержатель, оси симметрии подложкодержат...

1697453

Способ формирования металлизации межсоединений для интегральных схем

Изобретение относится к полупроводниковой технике и микроэлектронике и может быть использовано при производстве интегральных схем. Цель изобретения - повышение выхода годных интегральных схем за счет исключения дополнительного роста 1 пленок AITI и AITISI, а также увеличения стойкости к электромиграции и шипообразованию. Указанная цель достигается тем, что в интегральных схемах металлиза...

1707995

Катодный узел

Изобретение относится к вакуумному нанесению пленок методом ионного распыления материалов и может быть использовано в магнетронных установках. Сущность изобретения: катод - мишень магнетронного типа выполнен в виде выпуклого конуса с углом при вершине = 120-160, что позволяет при распылении кислородсодержащих соединений обеспечить угол разлета отрицательных ионов кислорода, ускоренных в...

1737933

Устройство для нанесения ферромагнитных покрытий

Сущность: после включения электромагнита 1 и придания вращения детали в рабочий зазор между полюсным наконечником 2 и деталью из бункера 3 подается ферромагнитный порошок Между полюсным наконечником 2 и деталью возникает электрический разряд, под действием которого порошок расплавляется, под действием сил магнитного поля наносится на обрабатываемую поверхность. Полученное покрыти...

1747538

Способ вакуумного напыления тонкой диэлектрической пленки

Использование: изобретение может быть использовано в пленарной технологии производства полупроводниковых приборов для получения пассивирующих покрытий в интегральных схемах, диэлектрических пленок тонкопленочных электролюминесцентных структур и т.п. Сущность: изобретение позволяет в результате введения кислорода в газовую аргоно-азотную смесь ВЧ магнетронного разряда при распылен...

1758085

Способ магнетронного напыления тонких пленок

Изобретение относится к электронной вакуумной технике. Цель изобретения - расширение функциональных возможностей способа. Способ магнетронного напыления включает подогрев подложек и напыление на них пленок одним и тем же магнетронным источником. Новым в способе магнетронного напыления является то, что подогрев поверхности подложек проводят во время напыления, причем подогрев осуществляют...

1760776

Способ магнетронного напыления

Использование: область вакуумно-плазменной технологии и может быть использовановмашиностроительной , приборостроительной и электронной промышленности . Сущность изобретения: для осаждения углеродной пленки алмазоподобного типа распыляют углеродную мишень в скрещенных электрическом и магнитном полях и осаждают поток с плотностью частиц, превышающей плотность остаточной атмосферы и...

1772217

Устройство для реактивного магнетронного нанесения покрытий в вакууме

Изобретение относится к акустике и акустоэлектронике, в частности к области нанесения диэлектрических и пьезоэлектрических пленок на поверхность подложки методом плазменно-реактивного распыления металлической мишени в вакууме. Пленки могут быть использованы в качестве источников и приемников акустических колебаний, применяемых в медицинской диагностике, акустическом зондировании...

1808024

Устройство для ионно-плазменного нанесения многокомпонентных пленок в вакууме

Изобретение касается нанесения покрытий в вакууме и может быть использовано при производстве изделий в электронной , приборостроительной, оптической и других отраслях промышленности. В устройстве требуемая стехиометрия достигается при создании в пространстве непосредственно над мишенью требуемого количественного соотношения атомов различных компонентов за счет определения размеро...

1816288

Магнетронное распылительное устройство

Изобретение относится к устройствам нанесения тонких пленок и направлено на увеличение скорости нанесения покрытия при высоком коэффициенте использования материала мишени и однородности нанесения пленки при индивидуальной обработке. Положительный эффект достигается тем, что в магнетронном распылительном устройстве , содержащем катод, мишень, анод, подвижную магнитную систему, сос...

1818358

Способ получения металлизированных изделий из полиимидной ленты в вакууме

Изобретение позволяет металлизировать одну или обе поверхности полиимидной пленки практически любым металлом или сплавом с толщиной наносимого металла от единиц мм до десяти мкм. При этом размеры металлизируемой полиимидной пленки могут быть шириной до 250 мм и длиной до 1000 мм, а качество металлизируемой пленки таково, что сплошность нанесенного слоя металла и его адгезия к полиимидной...

1828140

Устройство для нанесения покрытий в вакууме

Изобретение относится к конструкции пленарных магнетронов и позволяет в одном технологическом цикле.осуществлять ионное перемешивание наращиваемых магнетронным распылением пленок, ионно-индуцированное напыление, выращивание тонких пленок многослойных покрытий и р- n-структур. Устройство содержит основную кольцевую мишень магнетрона и дополнительную конусную мишень. Через рупорное...

1832134

Устройство для магнетронного распыления материалов в вакууме

Изобретение относится к нанесению покрытий в вакууме и может быть использовано в технологических вакуумных установках для создания изделий электронной техники, радиотехники, оптики и др. Сущность: устройство для магнетронного распыления материалов в вакууме содержит подложкодержатель с приводом для его вращения, анод, магнетронную систему с двумя катодами и расположенными под углом к оси...

1832760

Устройство для напыления пленок в плазме

Изобретение относится к акустике и акустоэлектронике, в частности к нанесению, диэлектрических и пьезоэлектрических пленок на поверхность подложки методом плазменно-реактивного распыления металлической мишени в вакууме. Цель изобретения - эффективность использования мишени. Это достигается тем, что устройство для напыления пленок в плазме содержит магнетронный распылитель с катодом-мишень...

2019576

Катодный узел для ионно-плазменного нанесения

Изобретение относится к нанесению тонких диэлектрических пленок путем ионного распыления материала в вакууме. Сущность изобретения: магнитная система выполнена в виде основных постоянных магнитов в форме швеллеров, установленных относительно друг друга одноименными полюсами, а внутри швеллеров расположены дополнительные постоянные магниты в форме швеллеров, установленные относительно друг...

2023744

Способ нанесения покрытия на подложку и устройство для его осуществления

Изобретение позволяет повысить скорость роста покрытия высокого качества путем воздействия на подложку направленным потоком плазмы, полученным в разряде со скрещенными электрическим и магнитным полями. Для этого в вакуумной камере расположены магнетронный источник и первый и второй узлы плазмообразования и создаваемые ими потоки направлены на подложку. С помощью системы транспортировки в...

2023745

Вакуумная установка для нанесения покрытий

Изобретение относится к напылительной технике и технологии, в частности к получению покрытий в вакууме, и может быть использовано при магнетронном высокоскоростном нанесении покрытий из металлов и сплавов на поверхность изделий различной геометрической формы. В установке реализовано использование магнетрона с двумя степенями подвижности. Магнетрон снабжен траверсой, на которой закреплены...

2024647

Устройство для нанесения покрытий в вакууме

Использование: нанесение покрытий в вакууме, в частности получение тонких пленок. Цель : повышение производительности устройства. Сущность изобретения: в устройстве между распыляемой мишенью и охлаждаемым основанием установлено уплотнение из теплопроводящего материала. Охлаждаемое основание снабжено кольцевым пазом и кольцевым выступом. Размеры и форма уплотнения, выступа и паза идентичн...

2026418

Способ получения коррозионностойких покрытий золотистого цвета на подложках

Использование: изобретение относится к получению декоративных коррозионно-стойких покрытий и может быть использовано в производстве строительных и отделочных материалов с покрытиями золотистого цвета. Сущность изобретения: с целью получения коррозионно-стойких покрытий с насыщенным золотистым цветом на подложках из различных прозрачных и непрозрачных материалов способ включает нанесение п...

2039127

Способ вакуумной обработки внутренней поверхности труб

Использование: изобретение относится к способам ионно-плазменной обработки конструкционных материалов. Сущность изобретения: с целью повышения коррозионной стойкости способ вакуумной обработки внутренней поверхности труб включает коаксиальное размещение разрядных электродов, в качестве одного из которых использовано обрабатываемое изделие, инициирование вакуумного электрического разряда...

2039845

Способ получения пленок в плазме

Использование: в акустике и акустикоэлектронике, в частности в области нанесения диэлектрических и пьезоэлектрических пленок на поверхность подложки методом плазменно-реактивного распыления металлической мишени в вакууме. Сущность изобретения: способ включает катодное распыление в кислородной среде в постоянном электрическом поле в межэлектродном пространстве, при температуре максимально...

2039846

Устройство для нанесения тонких пленок

Изобретение относится к вакуумной электронной промышленности и предназначено для напыления тонких пленок, например резист-сплава типа РС-3710, ванадия, меди, никеля с использованием магнетронного эффекта. Сущность изобретения: устройство для осаждения тонких пленок представляет собой вакуумную камеру с входным и выходным отверстиями для рабочего газа, содержащую подложку, магнетронный ист...

2041972

Катодный узел преимущественно для пучково-плазменного нанесения тонких пленок в вакууме

Использование: в области нанесения тонких пленок в вакууме путем пучково-плазменного распыления. Сущность изобретения: в результате предложенной реконструкции механизма размещения катода-мишени обеспечивается ее равномерное распыление по всей поверхности. Катод-мишень установлен в направляющих с возможностью линейного перемещения от привода, а вдоль направляющих установлены электретно-маг...

2046154

Способ получения эпитаксильных пленок

Изобретение относится к технологии микроэлектроники и может быть использовано для изготовления интегральных схем. Сущность изобретения: по способу получения эпитаксиальных пленок металлов, диэлектриков и ВТСП-керамики путем магнетронного или ионно-плазменного высокочастотного распыления материала мишени при электрическом смешении на подложке на подложку подают высокочастотное смешение с т...

2046837

C23C14/35 - с использованием магнитного поля, например распыление магнетроном

Патенты в этой категории