PatentDB.ru — поиск по патентным документам

Иллюстрации к патенту 1775030

Способ регулирования давления в рабочих пространствах печей двухванного агрегата с одним общим вертикалом

Способ регулирования давления в рабочих пространствах печей двухванного агрегата с одним общим вертикалом (патент 1775030)