PatentDB.ru — поиск по патентным документам

Иллюстрации к патенту 2549411

Способ регулирования площади поперечного сечения кристалла в процессе его выращивания вытягиванием из расплава

Способ регулирования площади поперечного сечения кристалла в процессе его выращивания вытягиванием из расплава (патент 2549411)