РОЛИК АГ (CH)

Изобретение относится к элементу, содержащему участок поверхности со специальной создающей оптический эффект рельефной микроструктурой поверхности. Рельефная микроструктура поверхности имеет возвышения и углубления, причем в первом поперечном направлении участка поверхности имеется в среднем по меньшей мере один переход от возвышения к углублению или наоборот на каждые 20 мкм и во втором поперечн...

Рельефные микроструктуры поверхности могут быть использованы для защиты документов и различных предметов от подделки и подлога. Способ тиражирования образующей узор рельефной микроструктуры поверхности включает стадии: формирования первого слоя (21), имеющего образующую узор рельефную микроструктуру поверхности, на втором слое (22), причем первый слой содержит первый материал, а второй слой сод...

Изобретение относится к новым фотохимически активным полимерным материалам. Полимерный материал содержит повторяющиеся звенья формулы (I): в которой M1 обозначает мономерное звено, выбранное из группы, включающей акрилат, метакрилат, 2-хлоракрилат, 2-фенилакрилат, простой виниловый эфир, сложный виниловый эфир, стирол, силоксан; кольцо А представляет собой незамещенный фенилен, фенилен,...