PatentDB.ru — поиск по патентным документам

ДОУ КОРНИНГ КОРПОРЕЙШН (US)

ДОУ КОРНИНГ КОРПОРЕЙШН (US) является правообладателем следующих патентов:

Способ получения больших однородных кристаллов карбида кремния с использованием процессов возгонки и конденсации

Способ получения больших однородных кристаллов карбида кремния с использованием процессов возгонки и конденсации

Изобретение может быть использовано в изготовлении полупроводниковых материалов. Способ получения монолитных кристаллов карбида кремния включает i) помещение смеси, содержащей крошку поликристаллического кремния и порошок углерода, на дно цилиндрической реакционной камеры, имеющей крышку; ii) герметизацию цилиндрической реакционной камеры; iii) помещение цилиндрической реакционной камеры в вакуу...

2495163

Способ получения трихлорсилана и тетрахлорсилана

Способ получения трихлорсилана и тетрахлорсилана

Изобретение относится к способу крекинга высококипящих полимеров для увеличения выхода и минимизации отходов в процессе получения трихлорсилана. Предложен способ крекинга полихлорсилана и/или полихлорсилоксана, включающий стадии а) получения смеси, содержащей полихлорсилан и/или полихлорсилоксан; б) удаления твердых частиц из этой смеси с получением чистой смеси; и в) рециркуляции полученной чис...

2499801

Композиция для контроля пенообразования

Композиция для контроля пенообразования

Изобретение относится к композициям для контроля пенообразования для систем жидких детергентов. Предложена композиция для контроля пенообразования, содержащая: (А) кремнийорганический антивспенивающий агент, содержащий (i) органополисилоксан, имеющий по меньшей мере один связанный с кремнием заместитель формулы Х-Ar, где Х представляет собой двухвалентную алифатическую группу, связанную с атомом...

2506306

Способ выращивания полупроводника и полупроводниковое устройство

Способ выращивания полупроводника и полупроводниковое устройство

Группа изобретений относится к полупроводниковым материалам. Способ (вариант 1) включает обеспечение реакционной камеры, обеспечение полупроводниковой подложки, обеспечение прекурсорного газа или газов, выполнение эпитаксиального CVD выращивания легированного полупроводникового материала на подложке в реакционной камере для формирования первого слоя, продувку реакционной камеры газовой смесью, в...

2520283