Устройство для нанесения фоторезиста на подложки

Устройство для нанесения фоторезиста на подложки

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА НА ПОДЛОЖКИ, содержащее SU... 1035844 A 3C5D Н 05 К 3/00/ В 01 L 21/00/ 5/00 .. :f. - А/В. у центрифугу .со столиком для размещения подложки в сьемшай экран, расположённый на упорах над столиком центрифуги с образованием зазора, от л и ч а и щ е е с я тем, что, с целью повышения качества изделий, в центре экрана выполнено окно, конфигурация KOTopoiTO эквидистантна контуру обрабатываеь40й подложки, а .размера окна меньше размеров подложки , причем величина нависания кромки окна над кромкой подложкиобратно пропорциональна величине зазора между экраном и подложкой. САЭ сд 00 «J 4

Згеп Н 05 K 3/00t »)г 01 Ь 21/00р

В 04 В 5/00 (21) 3361342/18-21 .(22) 27.11 ° 81 (46) 15.08.83. Вюл. В 30 (72) Н.К.Былкина, A.È.Nîðîçîâ ,и Н. Розыев (53) 621, 382. 002 (088. 8) (.56)" 1. Заявка. Японии Р 53-37702, кл. 99(5 ) С 3, 11. 10. 78.

2. Авторское свидетельство СССР

9 608382, кл. Н 05 К 3/00, 21.09.76 (нрототип) . (54)(57) УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ

ФОТОРЕЗИСТА HA ПОДЛОЖКИ, содержацее центрифугу со столиком для размещения подложки и съемный экран, распо- ложенный íà упорах над столиком центрифуги с образованием зазора, о т л и ч а ю щ е е c я тем, что, с целью поиьмения качества изделий, в.центре экрана выполнено окно, конфигурация которого зквндистантна контуру обрабатываемой подложки, а ,размеры окна меньше размеров подложки, причем величина нависания кромки окна над кромкой подложки обратно пропорциональна величине зазора меж- ду экраном и подложкой, 4

1035844

И зобретенне от носится к технологии изготовления полупроводниковых приборов и микросхем,. в частности к процессам нанесения Фоторезиста .на подложки, и может быть использовано при нанесении на подложки других 5 полимерных покрытий из жидкой фазы.

Наиболее распространенным способом нанесения фоторезиста является метод центрифугирования, позволяющий формировать пленки, достаточно равно- 30 мерные по толщине в широком.диапазоне толщин.

Однако пленки, сфорьярованные методом центрифугирования, имеют краевое утолщение, обусловленное силами 15 поверхностного натяжения на краях подложки, Известно устройство для нанесе-, ния равномерных по толщине пленок

Фоторезиста с помощью центрифугирования, содержащее рабочую камеру с вакуумным отсосом, дозатор, столик для размещения подложки, кольцевой экранирующий элемент, охватывающий сверху и снизу своими скошенными кромками кольцевой промежуток между краем подложки и стенками корпуса рабочей камеры устройства и нависающий над краями подложки с зазором, где для устранения краевого утолщения пленки используется вакуумный отсос газовой среды через кольцевую абдель, образованную кольцевым экранирующим элементом и подложкой, причем; экранирующий элемент жестко соедийен с рабочей камерой (1 . 35

Однако это устройство не позволяет устранйть краевое утолщение пленки фоторезиста>. на подложках некруглой формы, так как при вращении не сохраняется постоянный зазор экрана 40 с подложкой некруглой формы по ее периметру.

Наиболее близким к предлагаемому по технической сущности является устройство для нанесения фоторезиста 45 иа подложки, содержащее центрифугу со -столиком для размещения подложки и съемный экран, расположенный на упорах над столиком центрифуги Q2.1.

Однако это устройство также не 50 позволяет получить высокое качество .изделий, так как не устраняет полно« стью краевое утолщение слоя фотореаиста, обусловленное силами поверхностного натяжения.

Цель изобретения - повышение качества изделий.

Указанная цель достигается тем, что в устройстве для нанесения Фоторезиста на подложки,, содержащем центрифугу со столиком для размещения подложки и съемный экран, расположенный на упорах над столиком центрифуги с образованием зазора, в центре экрана выполнено окно, конфигурация котОрого эквидистантна контуру обрабатываемой подложки, а размеры окна меньше размеров подложки, причем величина нависания кром-. ки окна над кромкой подложки обратно пропорциональна величине зазора между экраном и подложкой;

На фиг. 1 изображено предлагаемое устройство, ебщий вид на Фиг. 2 конфигурация экрана.

Устройство содержит рабочую камеру 1, соединенную с системой вакуумного отсоса fне показана), и центрифугу со столиком 2, на упорах

3 которого размещен съемный экран 4.

В центре экрана 4 выполнено окно 5, конфигурация которого эквидистантна конфигурации обрабатываемой. подложки б, а размеры - меньше размеров подложки, т.е. край -окна 5 экрана 4 нависают над краями подложки б. В центре рабочей камеры 1 размещен до" затор 7. Зазор между экраном 4 и стенками рабочей камеры 1 составляет примерно 0,5-1,0 величины зазора между экраном 4 и подложкой б, что обусловлено, с одной стороны, условиями свободного вращения экрана 4 внутри рабочей. камеры 1, а с другой стороны - эффективчостью использовайия экрана 4. Величина нависания кромки окна 5 экрана 4 над кромкой подложки б обратно пропорциональна величине зазора между экраном 4 и подложкой б.

Устройство работает следующим образом.

Подложку б закрепляют на столике

2 центрифуги и устанавливают экран 4 на упоры 3. Затем включают привод центрифуги и наносят дозатором 7 фоторезист на подложку 6 через окно

5 экрана 4,,одновременно включив систему вакуумного отсоса. При этом поток газовой среды, проходящий через зазор между экраном 4 и,подложкой б, удаляет излишки фоторезиста с краев подложки б, устраняя краевое утолщение фоторезиста.

Устройство может быть использовано для обработки подложек любой .Форьи.

1035844

Составитель Г Падучин

Редактор С.Тимохина . ТехредО.Иеце Корректор A.Ôåðåíö

Закаэ 5859/62 Тираж 845 . Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам нэобретений и открытий

113035, Москва, Ж»35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП "Патент", r. ужгород, ул. Проектная, 4