Способ ионно-плазменного нанесения тонких металлических пленок

Способ ионно-плазменного нанесения тонких металлических пленок

Реферат

Способ ионно-плазменного нанесения тонких металлических пленок преимущественно на полиэтилентерефталатную подложку путем распыления ионами аргона в вакууме материала мишени и осаждения его на движущуюся подложку, отличающийся тем, что, с целью повышения качества пленок за счет улучшения их оптической прозрачности, электропроводности и адгезии к подложке, осаждение ведут при плотности тока разряда 0,8 - 1,2 мА/см² и скорости осаждения распыляемого материала 0,37 - 2,1 10^-7 г/см² с, при этом скорость движения подложки составляет 1 - 2 10^-2 м/с, а ее температура равна 70 - 80^oC.