Способ изготовления проводящих покрытий на полупроводниковых структурах

Способ изготовления проводящих покрытий на полупроводниковых структурах

Реферат

Способ изготовления проводящих покрытий на полупроводниковых структурах, включающий нанесение металла на структуру, формирование требуемой конфигурации металла, отжиг, отличающийся тем, что, с целью улучшения электрофизических параметров структур путем предотвращения окисления металлизации, после нанесения металла на структуру проводят облучение структуры ионами бора дозой 510¹⁵-510¹⁸ ионов/см^-2, энергией 0,5-250 кэВ, а отжиг проводят при температуре 1100-1400 К, в течение 15-60 мин или путем обработки СВЧ излучением с основной частотой излучения 950 МГц-100 ГГц, плотностью поглощенной энергии 7-2 кДж/см² и длительностью обработки 0,1-1000 с.