Вакуумная электронно-плазменная установка
Патент 1178302
Авторы
Классы МПК
- H05H1 - Плазменная техника (термоядерные реакторы G21B; ионно-лучевые трубки H01J 27/00; магнитогидродинамические генераторы H02K 44/08; получение рентгеновского излучения с формированием плазмы H05G 2/00); получение или ускорение электрически заряженных частиц или нейтронов (получение нейтронов от радиоактивных источников G21, например G21B,G21C, G21G); получение или ускорение пучков нейтральных молекул или атомов (атомные часы G04F 5/14; устройства со стимулированным излучением H01S; регулирование частоты путем сравнения с эталонной частотой, определяемой энергетическими уровнями молекул, атомов или субатомных частиц H03L 7/26)
- H05B7/22 - косвенный нагрев дуговым разрядом
Вакуумная электронно-плазменная установка
Реферат
Вакуумная электронно-плазменная установка для обработки мелкодисперсных материалов, содержащая вакуумную камеру, в которой соосно и последовательно установлены катодный узел плазмотрона, выполненный в виде катододержателя с полым катодом, центральной трубки ввода обрабатываемого материала и штуцера подачи плазмообразующего газа, и анод, отличающаяся тем, что, с целью улучшения качества обрабатываемого материала, анод выполнен в виде водоохлаждаемого кольца, а установка снабжена по меньшей мере тремя дополнительными катодными узлами, расположенными под анодом и направленными рабочими торцами к оси плазмотрона.