Устройство для плазмохимического удаления фоторезиста

Устройство для плазмохимического удаления фоторезиста

Реферат

Устройство для плазмохимического удаления фоторезистора, содержащее расположенный вертикально цилиндрический реактор из диэлектрика, в верхней части которого расположен патрубок напуска газа, индукционную катушку, охватывающую реактор и соединенную с ВЧ-генератором, подложкодержатель для размещения обрабатываемых пластин, установленный под открытым нижним торцом реактора перпендикулярно его оси, отличающееся тем, что, с целью обеспечения обработки подложек различного типоразмера без переналадки устройства при его использовании в гибком автоматизированном производстве, оно снабжено установленным на нижнем торце реактора параллельно подложкодержателю фланцем из диэлектрика, диаметр которого равен или больше диаметра подложкодержателя, расстояние l от подложкодержателя до индукционной катушки связано с диаметром D_р реактора соотношением 2,1 D_р<l<6,3 D_р, а расстояние h (мм) от подложкодержателя до фланца лежит в пределах следующего соотношения; где D_п - диаметр подложкодержателя, м; S - скорость прокачки газа через реактор, м³/с.