Устройство для двухсторонней механической очистки кремниевых и других тонких круглых пластин
Изобретение относится к технологии очистки полупроводниковых пластин , в частности кремниевых подложек, Устройство позволяет производить двухстороннюю очистку пластин и повысить качество обработки. Кремние союз советских РЕСПУБЛИК (19) (И) (бц4 Н Ol Ь 21 306 ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЙ ГосудАРственкый кОмитет сссР ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И OTKPblTWI К А ВТОРСНОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (89) C...