Устройство для двухсторонней механической очистки кремниевых и других тонких круглых пластин

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Изобретение относится к технологии очистки полупроводниковых пластин , в частности кремниевых подложек, Устройство позволяет производить двухстороннюю очистку пластин и повысить качество обработки. Кремние

союз советских

РЕСПУБЛИК (19) (И) (бц4 Н Ol Ь 21 306

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЙ

ГосудАРственкый кОмитет сссР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И OTKPblTWI

К А ВТОРСНОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (89) CS 237688 (48) 22.05.85 (21 ) 777351?/24-25 (22) 02,08,84 (31) РЧ 7122-83 (32) 29,09,83 (33) CS (46) 30.04.88. Бюл. М 16 (7l) Тесла, Кондерновы подник (CS) (72) Дргач Любомир (CS) (53) 621.382 (088.8) i(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ДВУХСТОРОННЕЙ

МЕХАНИЧЕСКОЙ ОЧИСТКИ КРЕМНИЕВЫХ И

ДРУГИХ ТОНКИХ КРУГЛЫХ ПЛАСТИН (57) Изобретение относится к технологии очистки полупроводниковых пластин, в частности кремниевых подложек.

Устройство позволяет производить двухстороннюю очистку пластин и повысить качество обработки. Кремние1392602 вая пластина 20 с помощью ролика 9 и пальца попадает в рабочее прост-, ранство, ограниченное корпусом 1 и крышкой 2. При вращении опорного дис ка 3 внутри неподвижного корпуса I пластины 20 обкатываются по пути, ограниченном пазами колец 6 и 7 .Очистка пластин происходит с помощью

Изобретение относится к технологическому оборудованию для механичес кой очистки полупроводниковых пластин, в частности кремниевых пластин.

Известны устройства для механической обработки полупроводниковых пластин,. в которых кремниевая пластина посредством вакуума прикреплена тыль ной стороной к рабочему поворотному 10 столику и обрабатывается с помощью щеток или направленного потока воды с одной стороны. Если необходимо обработать и вторую сторону, то пластину необходимо перевернуть. Качество обработки в значительной степени эа висит от манипуляций и чистоты про" ведения операций (патент ФРГ

2849184,,кл. Н 01 Ь 21/304, 1980).

Наиболее близким по технической 20 сущности к предлагаемому является устройство для изготовления полу" проводниковых подложек (патент США

1 4276114, кл. Н 01 L 21/304, 1981), включающее опорный диск с приводом 25 вращения, .средства очистки пластин в виде вращающегося диска. Данное устройство также не позволяет одно" временно вести обработку двух сторон пластины без дополнительных манипуля- 30 ций и операций, Предлагаемое устройство для двух" сторонней механической очистки кремниевых н других тонких круглых пластин состоит из неподвижного корпуса, 35 на крышке которого симметрично расположены моечные сегменты, причем между крыпкой и корпусом установлены направляющие, одна иэ которых выполнена в виде незамкнутого цилнндричес- 4р кого кояьца с конусным пазом, на торцах которого установлены пальцы, другая — a виде периферийного ролика с поролоновых сегментов 8. Рабочий путь пластин 20 заканчивается прн помощи пальца и ролика 9. Рабочий раствор подается в отверстие 19. При отсутствии в рабочем пространстве пластин 20 происходит самоочистка сегментов 8 путем взаимного трения.

2 ил. конусным пазом, а третья — в виде цилиндр ич е с ко г о коль ца с ко ну сным п аэом, установленного соосно с опорным диском, на котором также установлены моечные сегменты. Привод всего устройства обеспечивается одним двигателем.

Предлагаемое устройство позволяет производить одновременную очистку двух сторон полупроводниковых пластин без дополнительного проведения операции по перегрузке пластин, а также улучшить качество очистки преимущественно центральной поверхности пластин при низкой материалоемкости устройства и уменьшении расходов вспомогательных материалах.

На фиг.l изображен профиль устрой" ства; на фиг. 2 — устройство, плоский разрез.

Устройство содержит корпус l,крышку 2, опорный диск 3, прижимное кольцо 4, ось 5, центральное кольцо 6 с конусным пазом, незамкнутое цилиндрическое кольцо 7 с конусным пазом, моечные сегменты 8, периферийный ролик 9 с конусным пазом, прижимные диски 10, вал 11, ведущий 12 и ведомый 13 шкивы, ременную передачу 14, подшипники 15 и 16 двигатель 17, цальцы 18, отверстие 19, обрабатываемую пластину 20.

Устройство работает следующим образом.

Кремниевая пластина 20, вставленная во входную щель, подхватывается вращающимся периферийным роликом 9 и пальцем 18 и попадает в конусные пазы колец б и 7, при этом моечные сегменты 8 устанавливают кремниевую пластину 20 в определенной плоскости.

При вращении опорного диска 3 внутри

1392602 неподвижного корпуса 1 пластины 20 обкатываются по пути, ограниченном пазами колец 7 и 6. Очистка пластин формула изобретения

Редактор Е.Копча Техред Л.Сердюкова

Корректор М,Пожо

Заказ 1811/55 Тираж 746 Подписное

В11ИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул. Проектная, 4 происходит с помощью подвижных и не5 подвижных поролоновых моечных сегментов 8; Рабочий путь пластины 20 заканчивается при помощи пальца 18 и ролика 9, Рабочий раствор подается в отверстие 19. В момент отсутствия fð пластин 20 в рабочем пространстве происходит самоочистка сегментов 8 путем взаимного трения.

Предлагаемое устройство позволяет

IlpoBopHTh двухстороннюю очистку Kpуг 15 лых пластин и повысить качество обработки.

Устройство для двухсторонней меха" нической очистки кремниевых и других тонких круглых пластин, включающее опорный диск с приводом вращения, средства очистки пластин, моечные сегменты, о тлич ающе е ся тем, что устройство снабжено полым цилиндрическим корпусом с крышкой, между которыми установлены направляющие, одна из которых выполнена в виде незамкнутого цилиндрического кольца с конусным пазом, на торцах которого установлены пальцы, другая — в виде периферийного ролика с конусным пазом, а третья — в виде центрального кольца с конусным пазом, установ" ленного соосно с опорным диском, при этом средство очистки состоит из сегментных колец, жестко закрепленных на внутренних поверхностях крышки и опорного диска, размещенного внут" ри корпуса соосно с ним, а периферийный ролик соединен . ременной передачей с приводом вращения опорного .диска,