Способ изготовления пассивного лазерного затвора

Способ изготовления пассивного лазерного затвора

Реферат

Способ изготовления пассивного лазерного затвора для лазера с длиной волны излучения 1,5 мкм, включающий выращивание в инертной атмосфере легированных двухвалентными ионами редкоземельных или щелочноземельных элементов щелочно-галоидных кристаллов, их аддитивное окрашивание, закалку при температуре в интервале 300 - 400^oС и облучение светом с длинами волн 400 - 900 нм, отличающийся тем, что, с целью уменьшения неактивных потерь путем увеличения концентрации рабочих центров и уменьшения концентрации центров неактивных потерь, предварительно выращивают кристаллы без легирующей добавки, отбирают из них кристаллы с содержанием гидроксил-ионов не более 0,01 мол.%, затем выращивают легированный кристалл из шихты, состоящей из осушенной галоидной соли легирующей примеси и отобранного монокристаллического сырья, а после облучения светом кристалл дополнительно нагревают до температуры 40 - 120^oС.