Устройство для нанесения пленок аморфного гидрогенизированного кремния

Реферат

 

1. Устройство для нанесения пленок аморфного гидрогенизированного кремния, содержащее магнитную систему, вакуумную систему, подложкодержатель, источник высокочастотной энергии и резонатор с отрезками запредельных волноводов, отличающееся тем, что, с целью увеличения скорости осаждения пленок при уменьшении энергозатрат на поддержание магнитного поля и повышения коэффициента использования исходного материала путем создания в резонаторе плазмы с плотностью выше критической и поддержания ее в условиях верхнегибридного резонатора, устройство дополнительно содержит диэлектрическую вакуумную трубу, охватываемую резонатором, расположенную соосно с последним, и коаксиальные относительно вакуумной трубы электропроводящие цилиндры с наружным диаметром, меньшим внутреннего диаметра диэлектрической трубы на величину зазора, определяемого температурными коэффициентами расширения материалов трубы и цилиндра, а диаметр трубы больше диаметра подложки.

2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что магнитная система, вакуумная система, подложкодержатель и электропроводящие цилиндры расположены симметрично резонатору.