Способ создания f2-центров окраски в активной среде лазера
Патент 1463098
Авторы
Классы МПК
Способ создания f2-центров окраски в активной среде лазера
Реферат
Способ создания F-2-центров окраски в активной среде лазера на основе LiF, включающий обучение -квантами в интервале доз 5105 - 106 Gy, отличающийся тем, что, с целью формирования осесимметричного профиля поглощения F-2-центров окраски в активной среде, перед облучением -квантами проводят облучение электронами в интервале доз 106 - 5106 Gy активной среды, вращающейся вокруг своей оси.