Способ совместной юстировки электронной и ионной пушек в оже-спетрометрах

Способ совместной юстировки электронной и ионной пушек в оже-спетрометрах

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Изобретение относится к способам юстиоовки спектрометров, в частности к способам юстировки, электронной и ионной пушек, и может найти применение в оже-спектрометрах или для установок молекулярно-лучевой. эпитаксии Целью изобретения является упрощение процесса юстировки и повышение точности измерения концентрационных профилей за счет увеличения точности совмещения электронного и ионного пучков Для этого на подложку 1 наносят слой 2 полиметилметакрилата, в котором после экспонирования формируют рельефный слой 3 после травления в растворе метилэтиленкетона и изопропанола. Затем наносят слой сцинтиллирующего порошка окиси цинка, удаляют слой полиметилакрилата и совмещают светящееся пятно от электронной пушки с центром рельефного следа. Такая последовательность операций по юстировке позволяет упростить ее процесс, значительно повысить точность 1 з.п.ф-лы, 4 ил. СО

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (s>>s Н 01 J 49/00

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 4670121/21 (22) 09,01.89 (46) 07.09.91. 6юл. N. 33 (72) Н.В.Пенский (53) 621.384 (088.8) (56) Кораблев В.В, Электронная оже-спектроскопия. Курс лекций, - Л., ЛПИ, 1973, Патент США N 4351892, кл, 430-30, 1981. (54) СПОСОБ СОВМЕСТНОЙ ЮСТИРОВКИ

ЭЛЕКТРОННОЙ И ИОННОЙ ПУШЕК В

ОЖЕ-СП Е КТРОМЕТРАХ (57) Изобретение относится к способам юстировки спектрометров, в частности к способам юстировки, электронной и ионной пушек, и может найти применение в оже-спектрометрах или для установок. Ж 1675968 А1 молекулярно-лучевой, э и и та к с и и. Цел ь ю изобретения является упрощение процесса юстировки и повышение точности измерения концентрационных профилей за счет увеличения точности совмещения электронного и ионного пучков. Для этого на подложку 1 наносят слой 2 полиметилметакрилата, в котором после экспонирования формируют рельефный слой 3 после травления в растворе метилэтиленкетона и изопропанола.

Затем наносят слой сцинтиллирующего порошка окиси цинка, удаляют слой полиметилакрилата и совмещают светящееся пятно от электронной пушки с центром рельефного следа, Такая последовательность операций по юстировке позволяет упростить ее процесс, значительно повысить точность. 1 з.п.ф-лы, 4 ил.

1675968

Изобретение относится к способам юстировки спектрометров, а более конкретно— к способам юстировки электронной и ионной пушек, и может быть использовано при работе на оже-спектрометрах или для уста- 5 новок молекулярно-лучевой эпитаксии.

Цель изобретения — упрощение процесса юстировки, повышение точности измерения концентрационных профилей за счет увеличения точности совмещения электрон- 10 ного и ионного пучков.

На фиг. 1-4 показаны различные стадии изготовления калибровочного образца, Способ реализуется следующим образом. 15

На подложку 1 калибровочного образца наносится слой 2 полиметилметакрилата (фиг. 1).и подложку 1 с нанесенным слоем 2 экспонируют в оже-спектрометре при воздействии пучка ионной пушки. Затем прова- 20 дят процесс химического травления, с помощью которого создают рельефный след 3 ионного пучка на калибровочной пластине (фиг, 2).

После этого наносят сцинтиллирующий 25 слой 4 на поверхность слоя 2 полиметилметакрилата (фиг, 3), с которого затем удаляют остатки полиметилметакрилата (фиг. 4). Образец с рельефнымследом 3 ионного пучка и с нанесенным на него сцинтиллирующим 30 слоем 4 помещают в оже-спектрометр и выводят след пучка электронной пушки в центральную область рельефного следа.

Пример. Для совместной юстировки электронного и ионного пучков на установ- 35 ке для комплексного анализа поверхности

LHS-10 в качестве материала подложки калибровочного образца используют кремний

КЭ Ф-4.5(100).

На подложку калибровочного образца, 40 который имеет фс рму параллелепипеда размерами 3х10х13 мм, наносят слой попиметилметакрилата (ПММА).

Затем образец вводится в камеру анализа, причем положение образца фиксиру- 45 ют с помощью индикатора, установленного на штоке образца. Образец экспонируют в течение 40 мин под ионным пучком аргона (Ar ), при этом режим работы ионной пушки следующий; энергия пучка V = 4 кэВ, ток 50 эмиссии 10 мкА, диаметр пучка 35 мм, а в качестве газа используют спектрально чистый аргон.

Затем образец в течение 6 мин обрабатывают в смеси метилэтилленкетона и изо- 55 пропанола (3:1), B результате чего на поверхности образуется рельефный след пучка ионной пушки (фиг, 2).

На образец наносят сцинтиллирующий слой окиси цинка (фиг. 3) и последующей обработкой в указанной выше смеси в течение 7 минут добиваются локализации сцинтиллирующего слоя окиси цинка только на месте следа ионной пушки. Далее образец вводят повторно в камеру анализа на то же место, что и в первый раз с помощью индикатора, находящегося на штоке образца, После этого включают электронную пушку: ток нагревателя 2,4 А, энергия электронов—

5 кзВ, ток через образец 2 мкА. Электронный пучок, попадая на окись цинка, вызывает его свечение. Визуально наблюдая след электронного луча на поверхности калибровочного образца через окно в камере анализа, выводят укаэанный след с помощью юстировочных ручек в центр следа ионной пушки.

Параметры экспериментов, в которых обрабатывались режимы, указаны в следующей таблице, Таким образом, использование изобретения позволяет, во-первых, сократить время изготовления калибровочного образца за счет исключения процессов напыления

Siz; SigN

Формула изобретения

1, Способ совместной юстировки элекгронной и ионной пушек в оже-спектрометрах, включающий изготовление калибровочного образца путем нанесения на подложку пленки из материала, отличного от материала подложки, вытравливание в пленке отверстия, помещение калибровочГ ного образца в вакуумную камеру и совмещение электронного пучка с отверстием в пленке, отличающийся тем, что, с целью упрощения процесса юстировки и повышения точности измерения концентрационных профилей эа счет увеличения точности совмещения электронного и ионного пучков, в качествЬ пленки используют слой полиметилметакрилата, экспонируют калибровочный образец ионным пучком с плотностьк) 10 ; 2 10 А/м с энергией

3, 2,5 — 5,0 кэВ в течение 30 - 60 мин, вынимают из вакуумной камеры, травят в смеси метилэтиленкетона и изопропанола, взятых в соотношении 2:1 - 5: 1 в течение 5 - 10 мин, формируя тем самым рельефный слой ионного пучка, наносят слой сцинтиллятора, удаляют оставшийся слой полиметилметакрилата, вторично помещают калибровочный образец в вакуумную камеру, воспроизводя при этом прежнее положение образца, и

1675968

2. Способ по и. 1, о тл и ч а ю щи и с я тем, что в качестве сцинтиллятора используется порошок окиси цинка. отклоняют электронный пучок до совмещения светящегося пятна с центром рельефного следа ионного пучка.

Соотноше- Время проние в смеси явления, т авления мин

Возможность точной юстировки

Время травления под и чком мин

Плотность Э н е р г и я пучка, Аlм пучка. кэВ

5х10

6:1

Нет воэможности иэ-за неполного стравливания полиметилметакрилата

Имеется возможность точной юстировки

Нет возможности из-эа сильного бокового подт ава

2,0

5х10

4;1

3,0

102

1,5:1

15

6.0

Фиг,1

Фиг.5

Составитель К.Меньшиков

Редактор В.Бугренкова Техред М.Моргентал Корректор Q.Кундрик

Производственно-издательский комбинат "Патент", r. Ужгород, ул,Гагарина, 101

Заказ 3007 Тираж 300 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., 4/5