Способ определения содержания массовых долей элементов в материалах и сплавах
Иллюстрации
Показать всеИзобретение относится к эмиссионному спектральному анализу. Для определения содержания массовых долей элементов в материалах и сплавах производится возбуждение излучения образца в низкотемпературной плазме, регистрация эмиссионного спектра образца, измерение интенсивности аналитической линии элемента и линии сравнения, расчет содержания искомого элемента в пробе по физической модели, содержащей выражения для параметров, характеризующих устойчивое состояние низкотемпературной плазмы в стандартном образце по отношению к пробе и способность к излучению низкотемпературной плазмы относительно стандартного образца по каждому элементу. Технический результат - повышение точности и достоверности определения количественного содержания элементов в материалах и сплавах. 1 ил., 1 табл.
Реферат
Изобретение относится к атомному эмиссионному спектральному анализу материалов и сплавов, а именно к определению содержания массовых долей элементов в материалах и сплавах.
В классическом атомном эмиссионном анализе известен ряд способов определения содержания массовых долей элементов в материалах и сплавах.
Так, например, известен способ определения массовых долей при эмиссионном спектральном анализе материалов и изделий, имеющий в своей основе эмпирическую формулу Ломакина-Шейбе - представление зависимости интенсивности I излучения низкотемпературной плазмы (НТП) от величины массовых долей элементов Ci в исследуемом материале [1].
По данному способу расчет параметров массовых долей элементов Ci производится по градуировочным графикам I=f(lgCi) в небольших интервалах изменения Ci, причем границы данных интервалов определяются экспериментально соответствующим подбором стандартных образцов-эталонов (СО).
Недостатком данного способа является необходимость иметь большое количество стандартных образцов, что приводит к дополнительным затратам времени на их анализ и создает определенные трудности в экспресс анализах.
Известны технические решения, в которых с помощью одного комплекта СО анализируют около 50 марок алюминиевых сплавов на многоканальных атомно-эмиссионных спектрометрах. Разработан метод построения эмпирических градуировочных характеристик на больших диапазонах изменения содержания таких, элементов как медь, цинк, магний [2].
В связи с тем, что такое построение с помощью одной аналитической линии для некоторых элементов невозможно из-за реабсорбции и самопоглощения, то задача решена с помощью двух аналитических линий определяемого элемента. Нелинейность учтена с помощью полиномиальных моделей градуировочных характеристик (ГХ), коэффициенты которых рассчитывались по методу наименьших квадратов.
Для повышения точности определения примесей в алюминиевых сплавах по единому комплекту государственных СО (ГСО) введено "инструментальное" взвешивание, сущность которого сводится к набору таких ГХ, по которым при определении состава пробы обеспечивается максимальная вероятность получения фактически наблюдаемых содержаний элементов. "Инструментальное" взвешивание позволяет сократить число используемых комплектов СО, градуировочных графиков, постоянно находящихся в памяти ЭВМ, или специальных таблиц.
Описанный выше способ оптического спектрального анализа основан на косвенных измерениях химического состава, причем за меру процентного содержания определяемого элемента в пробе сплава принимается относительная интенсивность спектральной линии этого элемента при существовании фундаментальной связи между ними.
Связь устанавливается по данным градуировки спектрометра с помощью комплекта ГСО известного состава.
Однако реализация данного способа требует:
большого объема работ, связанных с занесением в память ЭВМ градуировочных характеристик;
наличия комплекта из нескольких СО;
при проведении анализа возбуждения спектра не только пробы, но и комплекта ГСО, а также измерения интенсивности спектральных линий пробы и ГСО.
Наиболее близким решением, взятым в качестве прототипа, является способ определения содержания массовых долей элементов в материалах и сплавах, в котором количество СО уменьшено до одного [3].
Известный способ включает возбуждение излучения образца, измерение почернения основной линии элемента и линии сравнения, расчет содержания испытуемого элемента в образце, регистрацию эмиссионного спектра СО для определения параметра Мэ, характеризующего способность к излучению НТП пробы относительно СО по каждому элементу, и параметра (АХ)эп, характеризующего устойчивое состояние НТП в СО по отношению к пробе, связанные соотношением
где М=(2/π)arctg{[Si(Si + Sicp - ΔSэ)/Si(Si + Siср+ΔSэ)]Ciэ};
bээ=1-(1/π)arctg[(АХ)ээCiэ];
Ciэ, ΔSэ - содержание элемента и разность почернений основной линии и линии сравнения в СО;
Si, Sicp - почернение основной линии и линии сравнения для пробы;
В, D - коэффициенты пропорциональности, определяемые по таблице соответствия по величине М, и рассчитывают ориентировочное содержание искомого элемента в пробе Сх по системе уравнений:
S0=250 - максимальное почернение, определяемое микрофотометром (паспортное значение).
Анализ известных способов определения содержания массовых долей элементов в материалах и сплавах показывает, что использование существующей в настоящее время полуэмпирической теории расчета количественного содержания элементов не предусматривает совокупность существующих объемных взаимодействий частиц в облаке НТП, сопровождающихся энергетическими превращениями атомов и ионов. Именно поэтому диапазон достоверного анализа по методу контрольного СО ограничен, что в значительной мере снижает точность и достоверность анализа при использовании отраслевых СО и СО предприятий.
Ограниченность их применения обуславливается также внутренними энергетическими превращениями при изменении количественных соотношений компонентов проб. Все это приводит к тому, что даже на ограниченном интервале изменения концентрации могут возникать погрешности при определении Сх.
Задачей данного изобретения является дальнейшее повышение точности и достоверности определения количественного содержания элементов в материалах и сплавах.
Поставленная задача достигается тем, что вводятся в рассмотрение изолированные системы расчета и метод последовательных приближений, учитывающие различный матричный состав и возможные различия в условиях проведения эксперимента для эталона и пробы. Для расчета в широком диапазоне изменения концентраций анализируемых элементов используется один контрольный эталон.
Для определения содержания массовых долей элементов в материалах и сплавах используется способ, включающий возбуждение излучения образца в низкотемпературной плазме, регистрацию эмиссионного спектра образца, измерение интенсивности аналитической линии элемента и линии сравнения, расчет содержания искомого элемента в пробе, по физической модели, содержащей выражения параметра (αχ)эх, характеризующего устойчивое состояние низкотемпературной плазмы в стандартном образце по отношению к пробе, и параметра Мiэ, характеризующего способность к излучению низкотемпературной плазмы относительно стандартного образца по каждому элементу, определяемые соотношениями
где
;
Сэi, ΔРэi - содержание элемента и разность интенсивностей
анализируемой линии и линии сравнения элемента i в стандартном образце;
Pxi, Pxicp - интенсивности анализируемой линии и линии сравнения элемента i в пробе;
В, D - коэффициенты пропорциональности, определяемые параметром Мэi, рассчитывают энергетические параметры излучения пробы относительно эталона L′хэ и L′эх
производят корректировку и расчет новых значений интенсивностей спектральных линий в пробе Рх и Рхср так, что
где ΔРх, ΣPx, - разность и сумма интенсивностей анализируемой линии и линии сравнения элемента в пробе;
P′x, P′xcp, Рх, Рхср - измеренные и скорректированные параметры пробы;
Lхэ=L′хэ+ΔL′;
ΔL′=1-(L′хэ+L′эх);
рассчитывают содержание искомого элемента в пробе Сх по системе уравнений
где
причем на промежуточных этапах в качестве эталона принимается расчетное значение концентрации Сст=Сх, определяют расчетное значение интенсивности излучения спектральной линии для эталона по выражению
где v=(f+fd2+1+d2)/[2d(f-1)];
d=tg[(π/2)·(Pэ+Pэср)/2P0];
h=[tg(π/2)·(Pэ/P0)]/[tg(π/2)·(Pэср/P0)];
f=Uэхh=(1/Uхэ)h,
а расчет концентрации и корректировку параметров излучения производят до тех пор, пока не выполнится заданная точность вычислений
где ΔРст - расчетное значение параметра излучения во внутреннем стандарте;
ΔРх - измеренное значение параметра излучения в пробе;
- относительная погрешность вычислений.
По предлагаемому способу выполняется расчет ряда виртуальных эталонов с контролем по интенсивности излучения, содержание в которых последовательно приближается к искомой величине.
Способ является составной частью автоматизированной системы определения количественного состава элементов в материалах и сплавах с фотоэлектрической регистрацией спектров. В качестве приемников излучения используются твердотельные многоканальные линейные приборы с зарядовой связью, преобразующие интенсивности излучения непрерывного спектра в дискретный сигнал, после обработки которого получают параметры анализируемых спектральных линий. В качестве параметров, участвующих в дальнейшем расчете количественного содержания, выбираются значения максимумов интенсивностей или площади, ограниченные контурами спектральных линий. Независимо от способа регистрации можно принять в качестве измеряемого параметра отображение интенсивности Р.
Исходными данными для расчета являются измеряемые параметры интенсивности излучения спектральных линий исследуемого элемента Рх, Рэ и линий сравнения Рхср, Рэср для эталона и исследуемой пробы, а также концентрация Сэ элемента в эталоне. Для неизолированной системы параметры пробы обозначены P′x; P′xcp:
где ΣРэ = Рэ + Рэср; ΣPx = Px + Pxcp;
ΔРэ = Рэ - Рэср; ΔРх = Рх - Рхср.
Исходные данные системы (1) переводятся в изолированное состояние, отстраиваясь от различий матричного состава и возможных различий в условиях проведения эксперимента для эталона и исследуемой пробы.
Для этого рассчитываются относительные энергетические параметры излучения пробы относительно эталона Lхэ, Lэх
и параметры усиления спектрального излучения элемента пробы относительно эталона Uхэ, Uэх
где P0 - максимальное значение измеряемого параметра (при фотоэлектрическом анализе V0=10B).
Условием совместимых изолированных систем являются уравнения
Если при этом в системе эталон-проба не происходит поглощение излучения, то эта сумма равна 1. Если же часть энергии поглощается (ΣL′<1) или происходит излучение части энергии в окружающую среду (ΣL′>1), то для приведения системы в изолированное состояние следует учесть эту разницу внесением поправки
В соответствии с полученным Lхэ производится корректировка и получение новых значений Рх и Рхср, при этом следует учитывать, что параметры ΔPx=const и ΔРэ=const, так как они являются мерой количественного содержания элемента в пробе и эталоне:
tg(π/2)Lхэ=(ΔРх + Рхср)/Рхср(ΣP′х - ΔРэ)/(ΣР′x + ΔРэ)
после преобразований:
Рхср=(ΔPxΣP′x - ΔРхΔРэ)/[tg(π/2)Lхэ(ΣР′х + ΔРэ) + ΔРэ - ΣРх];
и расчетная формула преобразуется к виду:
tg(π/2)Lхэ=[(ΔPx + Pxcp)/Pxcp][(ΔРх + 2Рхср - ΔРэ)/(ΔРх + 2Рхср + ΔРэ)].
После замены искомой величины Рхср, решается приведенное квадратное уравнение следующего вида:
Решением этого уравнения является параметр линии сравнения элемента пробы Рхср и затем из условия Рх = ΔРх + Рхср определяется интенсивность элемента пробы.
В результате преобразований возникает исходная для вычислений равновесная система с параметрами:
В последующих преобразованиях будем находить параметры внутреннего стандарта и сравнивать полученные значения с исходными измеренными параметрами пробы в изолированной системе (2).
Необходимое условие взаимосвязи внутреннего стандарта и пробы выразим равенством параметров ΣРэ =ΣРх = const.
Эта равновесная система для искомых Рх и Рхср будет симметричной относительно данных ΣРэ/2 и ΔРх/2, т.е.
Для нахождения промежуточного значения концентрации элемента пробы С′х=Сст1 на первом этапе расчетов решается тождество относительно Cст1 [1]:
где
- параметр излучения контрольного эталона;
- задающий энергетический параметр элемента пробы Сх, или эталона Сэ соответственно (восприимчивость к спектральному излучению);
- коэффициент самопоглощения атомов и ионов в низкотемпературной плазме;
Далее, на основе уравнений (2) для Lэх, рассчитывается разность ΔРст1 элемента пробы, соответствующая найденному по п.5 значению Cст1:
где
Фиксируются данные контрольного эталона и пробы на начало второго этапа вычислений:
Пункты 4-7 повторяются на втором этапе расчетов. В конце этих вычислений определяются исходные данные равновесной системы аналогичные (18).
Этапы повторяются до тех пор, пока с заданной степенью точности полученное значение разности входных параметров внутреннего стандарта ΔPстi на последнем этапе вычислений i не будет совпадать с измеренным значением в пробе ΔРх, т.е.:
для заданного уровня относительной погрешности δР.
Экспериментальные данные определения процентного содержания Si, Си, Mg и Mn в сплаве литейного алюминия АК5М, полученные на модернизированной фотоэлектрической установке МФС-8М, приведены в таблице. В качестве приемников спектрального излучения использованы блоки регистрации типа SKCCD на основе диодных линеек. В качестве контрольного эталона Скэ и исследуемой пробы использованы стандартные образцы из комплекта ГСО №11. Значение исследуемой пробы сравнивалось с заранее известным содержанием Сгсо.
Таблица | |||||||
Опытные данные способа последовательных приближений | |||||||
Элемент | Cкэ | Сгсо | Данные Сxi по этапам | δC, % | |||
C1 | C2 | С3 | C4=Сх | ||||
Si | 4.09 | 5.29 | 5.124 | - | - | 5.331 | 0.78 |
6.28 | 5.660 | 6.065 | - | 6.160 | 1.91 | ||
7.31 | 6.032 | 6.950 | 7.541 | 7.506 | 2.68 | ||
Cu | 0.98 | 2.06 | 1.784 | 2.222 | 2.187 | 2.170 | 5.33 |
2.84 | 2.378 | 2.755 | 2.821 | 2.726 | 4.01 | ||
6.75 | 5.630 | 6.344 | 6.952 | 6.935 | 2.70 | ||
Mg | 0.188 | 0.308 | 0.2757 | 0.321 | - | 0.315 | 2.27 |
0.482 | 0.394 | 0.467 | - | 0.501 | 3.94 | ||
0.497 | 0.406 | 0.486 | - | 0.506 | 1.81 | ||
Mn | 0.156 | 0.219 | 0.203 | - | - | 0.226 | 3.20 |
0.402 | 0.355 | 0.414 | - | 0.391 | 2.74 | ||
0.740 | 0.580 | 0.663 | 0.800 | 0.768 | 3.81 |
Пример расчетов для фотоэлектрического анализа.
Ниже приведены промежуточные результаты расчетов для Мп в сплаве Ак5М по данным таблицы.
Исходные данные измеренных напряжений, пропорциональные интенсивностям спектральных линий (Vo=10B).
Находим Lхэ, для этого вычисляем L′хэ, Lэх и ΔL:
L′хэ=0.7137; Lэх=0.1397; ΔL=0.1466; тогда Lхэ=0.8603.
Определяем параметр Vxcp из выражения (17) и затем Vx для равновесной изолированной системы, для которой из соображений симметрии выполняется условие (19). Тогда получим Vxcp=1.5450; Vx=0.4300.
Таким образом, исходная равновесная система на начальном этапе вычислений имеет следующий вид:
Первый этап. Находим содержание Cx1, из решения тождества (10) с использованием (11)-(13), (2), (3):
Cx1=0.58; ax=0.5501; bx=0.9016; Qx=0.4142; aст1=1.6360; bст1=0.9204;
Qст1=0.1160; Кст1=1.3443; Кх=1.4002; Uхэ=3.573; Qст1Uхэ=0.4586.
Тогда Cx1=C1=0.58 - внутренний стандарт первого этапа.
Определяем параметры Vx и Vxcp. Для этого в соответствии с уравнениями (15)-(18) находим значения d, h, К, f и v, а затем параметр ΔVx=ΔVст1 из формулы (14) при C1=0.58. Тогда получим:
К(Сх, Сэ)=1.333; aст1=1.6360; bст1=0.9204; Kст1=1.3443; Qст1=0.1160; Qx=0.4140;
d=0.1563; h=0.0765; f=4.8825; v=5.0484.
Тогда ΔVx=ΔV1=-1.2700, или из соображений симметрии для равновесных систем имеем:
V1=0.9875+(ΔV1/2)=0.9875+0.6350=0.3525;
V1cp=0.9875-(ΔV1/2)=0.9875-0.6350=1.6225.
Второй этап. Исходная система:
Находим Сх2:
Сх2=0.663; ах=0.4444; bx=0.8975; Qx=0.5321; ачт2=0.5501; bст2=0.9016;
Qст2=0.4142; кст2=1.4002; кх=1.4096; Uхэ=1.2843; Qст2Uхэ=0.532.
Тогда Cx2=C2=0.663 - внутренний стандарт второго этапа.
Определим параметры Vx и Vxcp при С3=0.75 по аналогии с предыдущим:
К(Сх, Сст2)-1.0660; Qx=0.5321; Qх=0.4142;
d=0.1563; h=0.2128; f=3.9; v=5.5372.
Тогда ΔVх=ΔV3=-1.1566, и из условия симметрии для равновесных систем имеем:
V2=0.9875+(ΔV2/2)=9875+0.5783=0.4092;
V2cp=0.9875-(ΔV2/2)=0.9875-0.5783=1.5658.
Третий этап. Исходная система:
Находим Сх3.
Сх3=0.8; ах=0.4212; bx=0.8965; Qx=0.5667; аст3=0.4444; bст3=0.8975;
Qст3=0.5321; кст3=1.4002; кх=1.4118; Ux3=1.066; Qст3Uхэ=0.5671.
Тогда Cx3=C3=0.80 - внутренний стандарт третьего этапа.
Определим параметры Vx и Vxcp при С3=0.8. По аналогии с предыдущим:
К(Сх, Сст3)=1.0660; Qx=0.5667; Qст3=0.5321;
d=0.1563; h=0.2564; f=3.7215; v=5.5915.
Тогда ΔVx=ΔV3=-1.082, и из условия симметрии для равновесных систем имеем:
V3=0.9875+(ΔV3/2)=0.9875+0.5410=0.4465;
V3ср=0.9875-(ΔV3/2)=0.9875-0.5410=1.5285.
Четвертый этап. Исходная система:
Находим Сх4:
Сх3=0.77; ах=0.4348; bx=0.8971; Qx=0.5459; aст4=0.4212; bст4=0.8965;
Qст4=0.5667; кст4=1.4118; кх=1.4105; Uxст4=0.9524; Qст4Uxэ=0.5397.
Тогда Cx4=Cx=0.768 - внутренний стандарт четвертого этапа.
Определим параметры Vx и Vxcp при C4=0.768. По аналогии:
ΔVx=(4Vo/π)·arctg[-v±[(v2-1)0.5]];
K(Cx, Cст4)=1.01; Qx=0.5459; Ост4=0.5665;
d=0.1563; h=0.2869; f=3.6532;
v=5.7474. Тогда ΔVx=ΔV4=-1.114;
и из условия симметрии для равновесных систем имеем:
V4=0.9875+(ΔV1/2)=0.9875+0.5570=0.4305;
V4cp=0.9875-(ΔV1/2)=0.9875-0.5570=1.5455.
Таким образом, на четвертом, заключительном этапе параметры исследуемой аналитической пары имеют следующие численные значения:
Таким образом, относительная погрешность при определении разности напряжений в эталоне по сравнению с разностью напряжений элемента в пробе на четвертом этапе вычислений составила
δр=(ΔVx-ΔVст4)/ΔVср=(1.115-1.114)/1.1145=0.1%.
Погрешность в определении Сх = СГСО =0.740 составила
δС=(Сх - СГСО)/СГСО=(0.768-0.74)/0.74=3.8% на уровне Сэ=0.156.
Погрешность аналитических вычислений можно определить из совместного решения уравнений (3), (4), (6) и (7).
Диаграммы изменения процентного содержания элементов и напряжений на выходе диодных линеек изображены на чертеже. Там же указаны получаемые относительные погрешности.
Полученные экспериментальные данные и проведенные вычисления позволяют говорить о более широком диапазоне использования одного контрольного эталона. Как показывают экспериментальные исследования различных марок материалов, содержание элементов в пробах относительно контрольных эталонов может отличаться в 10 и более раз. При этом погрешность конечного результата практически не изменяется и может колебаться в пределах от десятых долей процентов до (5-7)%.
При традиционных методах определения содержания с помощью градуировочных графиков при отношении 10>(Сх/Сэ)>5 относительная погрешность может изменяться в пределах от 5 до 25%. При меньших диапазонах изменения концентраций ошибка измерений уменьшается. Предельным случаем расчетов при традиционных методах обработки результатов измерений является отличие в содержаниях элементов в образцах и пробах не более чем в 10 раз.
Технико-экономическая эффективность предлагаемого способа определения содержания массовых долей элементов в материалах и сплавах заключается в повышении точности и достоверности определения количественного содержания элементов в материалах и сплавах. В результате повышается экономичность, экспрессность и качество проводимых анализов за счет сокращения расходов на приобретение дорогостоящих комплектов ГСО и их использования в текущих анализах, сокращения времени на проведение анализов. Способ обеспечивает необходимые точность и достоверность получаемых результатов в соответствии с требованиями ГОСТ.
Литература
1. Нагибина И.М., Михайловский Ю.К. Фотографические и фотоэлектрические спектральные приборы и техника эмиссионной спектроскопии. - Л.; Машиностроение, 1981. - С.92-103.
2. Морозов Н.А. Методы оптического спектрального анализа алюминиевых сплавов с применением ЭВМ. - Заводская лаборатория, 1986, №9. - С.21-28.
3. Пат.2035718 Россия, МКИ G01N 21/67. Способ определения массовых долей элементов в материалах и сплавах. // Никитенко Б.Ф., Одинец А.И., Казаков Н.С., Кузнецов В.П., Кузнецов А.А. 1995. Бюллетень №14. - Прототип.
Способ определения содержания массовых долей элементов в материалах и сплавах, включающий возбуждение излучения образца в низкотемпературной плазме, регистрацию эмиссионного спектра образца, измерение интенсивности аналитической линии элемента и линии сравнения, расчет содержания искомого элемента в пробе, отличающийся тем, что контролируют интенсивность излучения аналитической линии элемента в эталоне при последовательном приближении содержания элемента к искомой величине и производят корректировку параметров излучения пробы для измерения аналитической линии элемента, при этом используют физическую модель, содержащую выражения параметра (αχ)эх, характеризующего устойчивое состояние низкотемпературной плазмы в стандартном образце по отношению к пробе и параметра Мiэ, характеризующего способность к излучению низкотемпературной плазмы относительно стандартного образца по каждому элементу, определяемые соотношениями
где
Сэi ΔРэi - содержание элемента и разность интенсивностей анализируемой линии и линии сравнения элемента i в стандартном образце;
Pxi, Pxicp - интенсивности анализируемой линии и линии сравнения элемента i в пробе;
В, D - коэффициенты пропорциональности, определяемые параметром Мэi, рассчитывают энергетические параметры излучения пробы относительно эталона L′хэ и L′эх
производят корректировку и расчет новых значений интенсивностей спектральных линий в пробе Рх и Рхср так, что
где ΔРх, ΣРх, - разность и сумма интенсивностей анализируемой линии и линии сравнения элемента в пробе;
P′x, P′xcp, Рх, Рхср - измеренные и скорректированные параметры пробы;
Lхэ=L′хэ+ΔL′;
ΔL′=1-(L′хэ+L′эх);
рассчитывают содержание искомого элемента в пробе Сх по системе уравнений
где
причем на промежуточных этапах в качестве эталона принимается расчетное значение концентрации Сст=Сх, определяют расчетное значение интенсивности излучения спектральной линии для эталона по выражению
где v=(f+fd2+1+d2)/[2d(f-1)];
d=tg[(π/2)·(Pэ+Pэср)/2P0];
h=[tg(π/2)·(Pэ/P0)]/[tg(π/2)-(Pэср/P0)];
f=Uэхh=(1/Uэх)h,
а расчет концентрации и корректировку параметров излучения производят до тех пор, пока не выполнится заданная точность вычислений
где ΔРст - расчетное значение параметра излучения во внутреннем стандарте;
ΔРх - измеренное значение параметра излучения в пробе;
- относительная погрешность вычислений.