Способ определения содержания массовых долей элементов в материалах и сплавах

Иллюстрации

Показать все

Изобретение относится к эмиссионному спектральному анализу. Для определения содержания массовых долей элементов в материалах и сплавах производится возбуждение излучения образца в низкотемпературной плазме, регистрация эмиссионного спектра образца, измерение интенсивности аналитической линии элемента и линии сравнения, расчет содержания искомого элемента в пробе по физической модели, содержащей выражения для параметров, характеризующих устойчивое состояние низкотемпературной плазмы в стандартном образце по отношению к пробе и способность к излучению низкотемпературной плазмы относительно стандартного образца по каждому элементу. Технический результат - повышение точности и достоверности определения количественного содержания элементов в материалах и сплавах. 1 ил., 1 табл.

Реферат

Изобретение относится к атомному эмиссионному спектральному анализу материалов и сплавов, а именно к определению содержания массовых долей элементов в материалах и сплавах.

В классическом атомном эмиссионном анализе известен ряд способов определения содержания массовых долей элементов в материалах и сплавах.

Так, например, известен способ определения массовых долей при эмиссионном спектральном анализе материалов и изделий, имеющий в своей основе эмпирическую формулу Ломакина-Шейбе - представление зависимости интенсивности I излучения низкотемпературной плазмы (НТП) от величины массовых долей элементов Ci в исследуемом материале [1].

По данному способу расчет параметров массовых долей элементов Ci производится по градуировочным графикам I=f(lgCi) в небольших интервалах изменения Ci, причем границы данных интервалов определяются экспериментально соответствующим подбором стандартных образцов-эталонов (СО).

Недостатком данного способа является необходимость иметь большое количество стандартных образцов, что приводит к дополнительным затратам времени на их анализ и создает определенные трудности в экспресс анализах.

Известны технические решения, в которых с помощью одного комплекта СО анализируют около 50 марок алюминиевых сплавов на многоканальных атомно-эмиссионных спектрометрах. Разработан метод построения эмпирических градуировочных характеристик на больших диапазонах изменения содержания таких, элементов как медь, цинк, магний [2].

В связи с тем, что такое построение с помощью одной аналитической линии для некоторых элементов невозможно из-за реабсорбции и самопоглощения, то задача решена с помощью двух аналитических линий определяемого элемента. Нелинейность учтена с помощью полиномиальных моделей градуировочных характеристик (ГХ), коэффициенты которых рассчитывались по методу наименьших квадратов.

Для повышения точности определения примесей в алюминиевых сплавах по единому комплекту государственных СО (ГСО) введено "инструментальное" взвешивание, сущность которого сводится к набору таких ГХ, по которым при определении состава пробы обеспечивается максимальная вероятность получения фактически наблюдаемых содержаний элементов. "Инструментальное" взвешивание позволяет сократить число используемых комплектов СО, градуировочных графиков, постоянно находящихся в памяти ЭВМ, или специальных таблиц.

Описанный выше способ оптического спектрального анализа основан на косвенных измерениях химического состава, причем за меру процентного содержания определяемого элемента в пробе сплава принимается относительная интенсивность спектральной линии этого элемента при существовании фундаментальной связи между ними.

Связь устанавливается по данным градуировки спектрометра с помощью комплекта ГСО известного состава.

Однако реализация данного способа требует:

большого объема работ, связанных с занесением в память ЭВМ градуировочных характеристик;

наличия комплекта из нескольких СО;

при проведении анализа возбуждения спектра не только пробы, но и комплекта ГСО, а также измерения интенсивности спектральных линий пробы и ГСО.

Наиболее близким решением, взятым в качестве прототипа, является способ определения содержания массовых долей элементов в материалах и сплавах, в котором количество СО уменьшено до одного [3].

Известный способ включает возбуждение излучения образца, измерение почернения основной линии элемента и линии сравнения, расчет содержания испытуемого элемента в образце, регистрацию эмиссионного спектра СО для определения параметра Мэ, характеризующего способность к излучению НТП пробы относительно СО по каждому элементу, и параметра (АХ)эп, характеризующего устойчивое состояние НТП в СО по отношению к пробе, связанные соотношением

где М=(2/π)arctg{[Si(Si + Sicp - ΔSэ)/Si(Si + Siср+ΔSэ)]C};

bээ=1-(1/π)arctg[(АХ)ээC];

C, ΔSэ - содержание элемента и разность почернений основной линии и линии сравнения в СО;

Si, Sicp - почернение основной линии и линии сравнения для пробы;

В, D - коэффициенты пропорциональности, определяемые по таблице соответствия по величине М, и рассчитывают ориентировочное содержание искомого элемента в пробе Сх по системе уравнений:

S0=250 - максимальное почернение, определяемое микрофотометром (паспортное значение).

Анализ известных способов определения содержания массовых долей элементов в материалах и сплавах показывает, что использование существующей в настоящее время полуэмпирической теории расчета количественного содержания элементов не предусматривает совокупность существующих объемных взаимодействий частиц в облаке НТП, сопровождающихся энергетическими превращениями атомов и ионов. Именно поэтому диапазон достоверного анализа по методу контрольного СО ограничен, что в значительной мере снижает точность и достоверность анализа при использовании отраслевых СО и СО предприятий.

Ограниченность их применения обуславливается также внутренними энергетическими превращениями при изменении количественных соотношений компонентов проб. Все это приводит к тому, что даже на ограниченном интервале изменения концентрации могут возникать погрешности при определении Сх.

Задачей данного изобретения является дальнейшее повышение точности и достоверности определения количественного содержания элементов в материалах и сплавах.

Поставленная задача достигается тем, что вводятся в рассмотрение изолированные системы расчета и метод последовательных приближений, учитывающие различный матричный состав и возможные различия в условиях проведения эксперимента для эталона и пробы. Для расчета в широком диапазоне изменения концентраций анализируемых элементов используется один контрольный эталон.

Для определения содержания массовых долей элементов в материалах и сплавах используется способ, включающий возбуждение излучения образца в низкотемпературной плазме, регистрацию эмиссионного спектра образца, измерение интенсивности аналитической линии элемента и линии сравнения, расчет содержания искомого элемента в пробе, по физической модели, содержащей выражения параметра (αχ)эх, характеризующего устойчивое состояние низкотемпературной плазмы в стандартном образце по отношению к пробе, и параметра М, характеризующего способность к излучению низкотемпературной плазмы относительно стандартного образца по каждому элементу, определяемые соотношениями

где

;

Сэi, ΔРэi - содержание элемента и разность интенсивностей

анализируемой линии и линии сравнения элемента i в стандартном образце;

Pxi, Pxicp - интенсивности анализируемой линии и линии сравнения элемента i в пробе;

В, D - коэффициенты пропорциональности, определяемые параметром Мэi, рассчитывают энергетические параметры излучения пробы относительно эталона L′хэ и L′эх

производят корректировку и расчет новых значений интенсивностей спектральных линий в пробе Рх и Рхср так, что

где ΔРх, ΣPx, - разность и сумма интенсивностей анализируемой линии и линии сравнения элемента в пробе;

P′x, P′xcp, Рх, Рхср - измеренные и скорректированные параметры пробы;

Lхэ=L′хэ+ΔL′;

ΔL′=1-(L′хэ+L′эх);

рассчитывают содержание искомого элемента в пробе Сх по системе уравнений

где

причем на промежуточных этапах в качестве эталона принимается расчетное значение концентрации Сстх, определяют расчетное значение интенсивности излучения спектральной линии для эталона по выражению

где v=(f+fd2+1+d2)/[2d(f-1)];

d=tg[(π/2)·(Pэ+Pэср)/2P0];

h=[tg(π/2)·(Pэ/P0)]/[tg(π/2)·(Pэср/P0)];

f=Uэхh=(1/Uхэ)h,

а расчет концентрации и корректировку параметров излучения производят до тех пор, пока не выполнится заданная точность вычислений

где ΔРст - расчетное значение параметра излучения во внутреннем стандарте;

ΔРх - измеренное значение параметра излучения в пробе;

- относительная погрешность вычислений.

По предлагаемому способу выполняется расчет ряда виртуальных эталонов с контролем по интенсивности излучения, содержание в которых последовательно приближается к искомой величине.

Способ является составной частью автоматизированной системы определения количественного состава элементов в материалах и сплавах с фотоэлектрической регистрацией спектров. В качестве приемников излучения используются твердотельные многоканальные линейные приборы с зарядовой связью, преобразующие интенсивности излучения непрерывного спектра в дискретный сигнал, после обработки которого получают параметры анализируемых спектральных линий. В качестве параметров, участвующих в дальнейшем расчете количественного содержания, выбираются значения максимумов интенсивностей или площади, ограниченные контурами спектральных линий. Независимо от способа регистрации можно принять в качестве измеряемого параметра отображение интенсивности Р.

Исходными данными для расчета являются измеряемые параметры интенсивности излучения спектральных линий исследуемого элемента Рх, Рэ и линий сравнения Рхср, Рэср для эталона и исследуемой пробы, а также концентрация Сэ элемента в эталоне. Для неизолированной системы параметры пробы обозначены P′x; P′xcp:

где ΣРэ = Рэ + Рэср; ΣPx = Px + Pxcp;

ΔРэ = Рэ - Рэср; ΔРх = Рх - Рхср.

Исходные данные системы (1) переводятся в изолированное состояние, отстраиваясь от различий матричного состава и возможных различий в условиях проведения эксперимента для эталона и исследуемой пробы.

Для этого рассчитываются относительные энергетические параметры излучения пробы относительно эталона Lхэ, Lэх

и параметры усиления спектрального излучения элемента пробы относительно эталона Uхэ, Uэх

где P0 - максимальное значение измеряемого параметра (при фотоэлектрическом анализе V0=10B).

Условием совместимых изолированных систем являются уравнения

Если при этом в системе эталон-проба не происходит поглощение излучения, то эта сумма равна 1. Если же часть энергии поглощается (ΣL′<1) или происходит излучение части энергии в окружающую среду (ΣL′>1), то для приведения системы в изолированное состояние следует учесть эту разницу внесением поправки

В соответствии с полученным Lхэ производится корректировка и получение новых значений Рх и Рхср, при этом следует учитывать, что параметры ΔPx=const и ΔРэ=const, так как они являются мерой количественного содержания элемента в пробе и эталоне:

tg(π/2)Lхэ=(ΔРх + Рхср)/Рхср(ΣP′х - ΔРэ)/(ΣР′x + ΔРэ)

после преобразований:

Рхср=(ΔPxΣP′x - ΔРхΔРэ)/[tg(π/2)Lхэ(ΣР′х + ΔРэ) + ΔРэ - ΣРх];

и расчетная формула преобразуется к виду:

tg(π/2)Lхэ=[(ΔPx + Pxcp)/Pxcp][(ΔРх + 2Рхср - ΔРэ)/(ΔРх + 2Рхср + ΔРэ)].

После замены искомой величины Рхср, решается приведенное квадратное уравнение следующего вида:

Решением этого уравнения является параметр линии сравнения элемента пробы Рхср и затем из условия Рх = ΔРх + Рхср определяется интенсивность элемента пробы.

В результате преобразований возникает исходная для вычислений равновесная система с параметрами:

В последующих преобразованиях будем находить параметры внутреннего стандарта и сравнивать полученные значения с исходными измеренными параметрами пробы в изолированной системе (2).

Необходимое условие взаимосвязи внутреннего стандарта и пробы выразим равенством параметров ΣРэ =ΣРх = const.

Эта равновесная система для искомых Рх и Рхср будет симметричной относительно данных ΣРэ/2 и ΔРх/2, т.е.

Для нахождения промежуточного значения концентрации элемента пробы С′хст1 на первом этапе расчетов решается тождество относительно Cст1 [1]:

где

- параметр излучения контрольного эталона;

- задающий энергетический параметр элемента пробы Сх, или эталона Сэ соответственно (восприимчивость к спектральному излучению);

- коэффициент самопоглощения атомов и ионов в низкотемпературной плазме;

Далее, на основе уравнений (2) для Lэх, рассчитывается разность ΔРст1 элемента пробы, соответствующая найденному по п.5 значению Cст1:

где

Фиксируются данные контрольного эталона и пробы на начало второго этапа вычислений:

Пункты 4-7 повторяются на втором этапе расчетов. В конце этих вычислений определяются исходные данные равновесной системы аналогичные (18).

Этапы повторяются до тех пор, пока с заданной степенью точности полученное значение разности входных параметров внутреннего стандарта ΔPстi на последнем этапе вычислений i не будет совпадать с измеренным значением в пробе ΔРх, т.е.:

для заданного уровня относительной погрешности δР.

Экспериментальные данные определения процентного содержания Si, Си, Mg и Mn в сплаве литейного алюминия АК5М, полученные на модернизированной фотоэлектрической установке МФС-8М, приведены в таблице. В качестве приемников спектрального излучения использованы блоки регистрации типа SKCCD на основе диодных линеек. В качестве контрольного эталона Скэ и исследуемой пробы использованы стандартные образцы из комплекта ГСО №11. Значение исследуемой пробы сравнивалось с заранее известным содержанием Сгсо.

Таблица
Опытные данные способа последовательных приближений
ЭлементCкэСгсоДанные Сxi по этапамδC, %
C1C2С3C4х
Si4.095.295.124--5.3310.78
6.285.6606.065-6.1601.91
7.316.0326.9507.5417.5062.68
Cu0.982.061.7842.2222.1872.1705.33
2.842.3782.7552.8212.7264.01
6.755.6306.3446.9526.9352.70
Mg0.1880.3080.27570.321-0.3152.27
0.4820.3940.467-0.5013.94
0.4970.4060.486-0.5061.81
Mn0.1560.2190.203--0.2263.20
0.4020.3550.414-0.3912.74
0.7400.5800.6630.8000.7683.81

Пример расчетов для фотоэлектрического анализа.

Ниже приведены промежуточные результаты расчетов для Мп в сплаве Ак5М по данным таблицы.

Исходные данные измеренных напряжений, пропорциональные интенсивностям спектральных линий (Vo=10B).

Находим Lхэ, для этого вычисляем L′хэ, Lэх и ΔL:

L′хэ=0.7137; Lэх=0.1397; ΔL=0.1466; тогда Lхэ=0.8603.

Определяем параметр Vxcp из выражения (17) и затем Vx для равновесной изолированной системы, для которой из соображений симметрии выполняется условие (19). Тогда получим Vxcp=1.5450; Vx=0.4300.

Таким образом, исходная равновесная система на начальном этапе вычислений имеет следующий вид:

Первый этап. Находим содержание Cx1, из решения тождества (10) с использованием (11)-(13), (2), (3):

Cx1=0.58; ax=0.5501; bx=0.9016; Qx=0.4142; aст1=1.6360; bст1=0.9204;

Qст1=0.1160; Кст1=1.3443; Кх=1.4002; Uхэ=3.573; Qст1Uхэ=0.4586.

Тогда Cx1=C1=0.58 - внутренний стандарт первого этапа.

Определяем параметры Vx и Vxcp. Для этого в соответствии с уравнениями (15)-(18) находим значения d, h, К, f и v, а затем параметр ΔVx=ΔVст1 из формулы (14) при C1=0.58. Тогда получим:

К(Сх, Сэ)=1.333; aст1=1.6360; bст1=0.9204; Kст1=1.3443; Qст1=0.1160; Qx=0.4140;

d=0.1563; h=0.0765; f=4.8825; v=5.0484.

Тогда ΔVx=ΔV1=-1.2700, или из соображений симметрии для равновесных систем имеем:

V1=0.9875+(ΔV1/2)=0.9875+0.6350=0.3525;

V1cp=0.9875-(ΔV1/2)=0.9875-0.6350=1.6225.

Второй этап. Исходная система:

Находим Сх2:

Сх2=0.663; ах=0.4444; bx=0.8975; Qx=0.5321; ачт2=0.5501; bст2=0.9016;

Qст2=0.4142; кст2=1.4002; кх=1.4096; Uхэ=1.2843; Qст2Uхэ=0.532.

Тогда Cx2=C2=0.663 - внутренний стандарт второго этапа.

Определим параметры Vx и Vxcp при С3=0.75 по аналогии с предыдущим:

К(Сх, Сст2)-1.0660; Qx=0.5321; Qх=0.4142;

d=0.1563; h=0.2128; f=3.9; v=5.5372.

Тогда ΔVх=ΔV3=-1.1566, и из условия симметрии для равновесных систем имеем:

V2=0.9875+(ΔV2/2)=9875+0.5783=0.4092;

V2cp=0.9875-(ΔV2/2)=0.9875-0.5783=1.5658.

Третий этап. Исходная система:

Находим Сх3.

Сх3=0.8; ах=0.4212; bx=0.8965; Qx=0.5667; аст3=0.4444; bст3=0.8975;

Qст3=0.5321; кст3=1.4002; кх=1.4118; Ux3=1.066; Qст3Uхэ=0.5671.

Тогда Cx3=C3=0.80 - внутренний стандарт третьего этапа.

Определим параметры Vx и Vxcp при С3=0.8. По аналогии с предыдущим:

К(Сх, Сст3)=1.0660; Qx=0.5667; Qст3=0.5321;

d=0.1563; h=0.2564; f=3.7215; v=5.5915.

Тогда ΔVx=ΔV3=-1.082, и из условия симметрии для равновесных систем имеем:

V3=0.9875+(ΔV3/2)=0.9875+0.5410=0.4465;

V3ср=0.9875-(ΔV3/2)=0.9875-0.5410=1.5285.

Четвертый этап. Исходная система:

Находим Сх4:

Сх3=0.77; ах=0.4348; bx=0.8971; Qx=0.5459; aст4=0.4212; bст4=0.8965;

Qст4=0.5667; кст4=1.4118; кх=1.4105; Uxст4=0.9524; Qст4U=0.5397.

Тогда Cx4=Cx=0.768 - внутренний стандарт четвертого этапа.

Определим параметры Vx и Vxcp при C4=0.768. По аналогии:

ΔVx=(4Vo/π)·arctg[-v±[(v2-1)0.5]];

K(Cx, Cст4)=1.01; Qx=0.5459; Ост4=0.5665;

d=0.1563; h=0.2869; f=3.6532;

v=5.7474. Тогда ΔVx=ΔV4=-1.114;

и из условия симметрии для равновесных систем имеем:

V4=0.9875+(ΔV1/2)=0.9875+0.5570=0.4305;

V4cp=0.9875-(ΔV1/2)=0.9875-0.5570=1.5455.

Таким образом, на четвертом, заключительном этапе параметры исследуемой аналитической пары имеют следующие численные значения:

Таким образом, относительная погрешность при определении разности напряжений в эталоне по сравнению с разностью напряжений элемента в пробе на четвертом этапе вычислений составила

δр=(ΔVx-ΔVст4)/ΔVср=(1.115-1.114)/1.1145=0.1%.

Погрешность в определении Сх = СГСО =0.740 составила

δС=(Сх - СГСО)/СГСО=(0.768-0.74)/0.74=3.8% на уровне Сэ=0.156.

Погрешность аналитических вычислений можно определить из совместного решения уравнений (3), (4), (6) и (7).

Диаграммы изменения процентного содержания элементов и напряжений на выходе диодных линеек изображены на чертеже. Там же указаны получаемые относительные погрешности.

Полученные экспериментальные данные и проведенные вычисления позволяют говорить о более широком диапазоне использования одного контрольного эталона. Как показывают экспериментальные исследования различных марок материалов, содержание элементов в пробах относительно контрольных эталонов может отличаться в 10 и более раз. При этом погрешность конечного результата практически не изменяется и может колебаться в пределах от десятых долей процентов до (5-7)%.

При традиционных методах определения содержания с помощью градуировочных графиков при отношении 10>(Схэ)>5 относительная погрешность может изменяться в пределах от 5 до 25%. При меньших диапазонах изменения концентраций ошибка измерений уменьшается. Предельным случаем расчетов при традиционных методах обработки результатов измерений является отличие в содержаниях элементов в образцах и пробах не более чем в 10 раз.

Технико-экономическая эффективность предлагаемого способа определения содержания массовых долей элементов в материалах и сплавах заключается в повышении точности и достоверности определения количественного содержания элементов в материалах и сплавах. В результате повышается экономичность, экспрессность и качество проводимых анализов за счет сокращения расходов на приобретение дорогостоящих комплектов ГСО и их использования в текущих анализах, сокращения времени на проведение анализов. Способ обеспечивает необходимые точность и достоверность получаемых результатов в соответствии с требованиями ГОСТ.

Литература

1. Нагибина И.М., Михайловский Ю.К. Фотографические и фотоэлектрические спектральные приборы и техника эмиссионной спектроскопии. - Л.; Машиностроение, 1981. - С.92-103.

2. Морозов Н.А. Методы оптического спектрального анализа алюминиевых сплавов с применением ЭВМ. - Заводская лаборатория, 1986, №9. - С.21-28.

3. Пат.2035718 Россия, МКИ G01N 21/67. Способ определения массовых долей элементов в материалах и сплавах. // Никитенко Б.Ф., Одинец А.И., Казаков Н.С., Кузнецов В.П., Кузнецов А.А. 1995. Бюллетень №14. - Прототип.

Способ определения содержания массовых долей элементов в материалах и сплавах, включающий возбуждение излучения образца в низкотемпературной плазме, регистрацию эмиссионного спектра образца, измерение интенсивности аналитической линии элемента и линии сравнения, расчет содержания искомого элемента в пробе, отличающийся тем, что контролируют интенсивность излучения аналитической линии элемента в эталоне при последовательном приближении содержания элемента к искомой величине и производят корректировку параметров излучения пробы для измерения аналитической линии элемента, при этом используют физическую модель, содержащую выражения параметра (αχ)эх, характеризующего устойчивое состояние низкотемпературной плазмы в стандартном образце по отношению к пробе и параметра М, характеризующего способность к излучению низкотемпературной плазмы относительно стандартного образца по каждому элементу, определяемые соотношениями

где

Сэi ΔРэi - содержание элемента и разность интенсивностей анализируемой линии и линии сравнения элемента i в стандартном образце;

Pxi, Pxicp - интенсивности анализируемой линии и линии сравнения элемента i в пробе;

В, D - коэффициенты пропорциональности, определяемые параметром Мэi, рассчитывают энергетические параметры излучения пробы относительно эталона L′хэ и L′эх

производят корректировку и расчет новых значений интенсивностей спектральных линий в пробе Рх и Рхср так, что

где ΔРх, ΣРх, - разность и сумма интенсивностей анализируемой линии и линии сравнения элемента в пробе;

P′x, P′xcp, Рх, Рхср - измеренные и скорректированные параметры пробы;

Lхэ=L′хэ+ΔL′;

ΔL′=1-(L′хэ+L′эх);

рассчитывают содержание искомого элемента в пробе Сх по системе уравнений

где

причем на промежуточных этапах в качестве эталона принимается расчетное значение концентрации Сстх, определяют расчетное значение интенсивности излучения спектральной линии для эталона по выражению

где v=(f+fd2+1+d2)/[2d(f-1)];

d=tg[(π/2)·(Pэ+Pэср)/2P0];

h=[tg(π/2)·(Pэ/P0)]/[tg(π/2)-(Pэср/P0)];

f=Uэхh=(1/Uэх)h,

а расчет концентрации и корректировку параметров излучения производят до тех пор, пока не выполнится заданная точность вычислений

где ΔРст - расчетное значение параметра излучения во внутреннем стандарте;

ΔРх - измеренное значение параметра излучения в пробе;

- относительная погрешность вычислений.