Патент ссср 247001

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

2470 Ol

ОПИСАН И Е

ИЗОЫ ЕТ ЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Совтз Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №вЂ”

Кл. 48b, 13/08

3 а явлено 09.1.1968 (K 1209104!22-1 ) с присоединением заявки №вЂ”

Приоритет

МПК С 23с

УДК 621.793.14.002.52 (088.8) Комитет оо делам изобретений и открытий ори Совете Министров

СССР

Опубликовано 26 1.1970. Бюллетень № 6

Дата опубликования описания 9.V1.1970. .Втор изобретения

В. А. Злотин

Заявитель

УСТАНОВКА ДЛЯ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО РАСПЫЛЕНИЯ

Изобретение относится к области нанесения вакуумных покрытий.

Известна установка для ионно-плазменного распыления, содержащая вакуумную камеру, подложку, мишень из распыляемого материала и ионизационную систему.

Предложенная установка отличается тем, что ионизационная система выполнена в виде двух одинаковых электродов-термокатодов.

Такая установка обеспечивает равномерность толщины осаждаемой пленки, проста по конструкции и компактна.

На чертеже изображена схема описываемой установки.

Установка состоит из вакуумной камеры 1, подложки 2, мишснн 8 из распыляемого материала и ионнзационной системы, выполненной

В Виде двух одинаковых электродов-термокатодов 4 и 5, накал которых осуществляется от источников б и 7. К термокатодам 4 и 5 приложено переменное напряжение, создаваемое источником 8. Мишень 3 связана с источником высокого отр|ицательного напряжения 9. Когда один из термокатодов имеет отрицательный потенциал, эмиттируемые им электроны ускоряются по направлению ко второму термокатоду, имеющему в это время .положительный потенциал и служащему анодом. В следующем полупериоде термокатоды меняются ролями. Таким образом, хотя в каждый данный момент электростатическое поле в системе не является симметричным, в среднем за время процесса

10 поле анода не влияет на скорость распыления и не нарушает равномерности толщины плен. ки.

Предмет изобретения

15 Установка для понно-плазменного распыления, содержащая вакуумную камеру, подложку, мишень из распыляемого материала и ионнзационную систему, отличающаяся тем, что, с целью обеспечения равномерности тол20 щины осаждаемой пленки и упрощения конструкции, ионизационная сисгема выполнена р виде двух одинаковых электродов-термокато,дов.

247001

Составитель В. Злотии

Техред А. А, Камышникова Корректор В. В. Комарова

Редактор В. Сорокин

Заказ 1292/7 Тираж 50Р Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва 5Ê-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2