C23C14/42 - триодное распыление (C23C 14/35 имеет преимущество)

Патент ссср 247001

2470 Ol ОПИСАН И Е ИЗОЫ ЕТ ЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Совтз Советских Социалистических Республик Зависимое от авт. свидетельства №вЂ” Кл. 48b, 13/08 3 а явлено 09.1.1968 (K 1209104!22-1 ) с присоединением заявки №вЂ” Приоритет МПК С 23с УДК 621.793.14.002.52 (088.8) Комитет оо делам изобретений и открытий ори Совете Министров СССР Опубликовано 26 1.1970. Бюллетень № 6...

247001

Источник магнетронного распыления ферромагнитных материалов

1. Источник магнетронного распыления ферромагнитных материалов, содержащий катод, магнитную систему с полюсными наконечниками и мишень, отличающийся тем, что, с целью упрощения конструкции, в мишени выполнена канавка, расположенная между полюсными наконечниками магнитной системы.2. Источник по п.1, отличающийся тем, что канавка расположена на поверхности мишени, прилегающей к магнитной си...

1036075

Устройство для нанесения диэлектрических покрытий катодным распылением в вакууме

Изобретение относится к вакуумной технике. Цель упрощение конструкции устройства для нанесения диэлектрических покрытий катодным распылением в вакууме, повышение его экономичности. Устройство содержит катод-мишень 1, подложку (П) 2, подложкодержатель 3, нагреватель 4, кольцевой анод (КА) 5. Для достижения цели на КА 5, равномерно по его периметру, сделаны выступы 6 игольчатой формы, напри...

1322701

Устройство для получения защитно-декоративных покрытий в вакууме ионно-плазменным напылением

Существо изобретения заключается в том, что устройство для получения защитно-декоративных покрытий в вакууме методом ионно-плазменного напыления содержит вакуумную камеру, внутри которой расположены мишень источника напыляемого материала, анод, термоэмиссионный катод, держатель покрываемых изделий, экран-заслонку, а также источник рабочего газа и, по крайней мере, в частном случае один ис...

2065890

Катодный узел для получения тонких пленок в вакууме

Сущностью изобретения является катодный узел для получения тонких пленок в вакууме. При выполнении технологического процесса в вакууме происходит перемещение магнитной системы 2 по мере наращивания пленки на локальном участке посредством устройства перемещения 12. При этом ввиду предварительной регулировки зазоров в магнитной системе 2 с неподвижным ярмом 8 посредством перемещения сердечн...

2089660

Катодный узел

Сущностью изобретения является катодный узел, в котором элементы напуска газа выполнены в виде двух блоков, расположенных по периферии электрода-мишени, совмещенного с подложкой. Блоки выполнены с возможностью последовательной подачи через них инертных и активных газов посредством золотниковой системы, магнитная система выполнена с возможностью регулирования индукции магнитного поля от ну...

2089661

Устройство для обработки отверстий деталей в разряде в условиях низкого давления

Устройство относится к электротермическому машиностроению, в частности к вакуумным установкам для нанесения покрытий в разряде. Техническим результатом является повышение глубины и равномерности обработки в разряде отверстий малого диаметра. Устройство содержит вакуумную камеру и подложку для размещения деталей, источник питания, соединенный отрицательным полюсом с подложкой, положительны...

2173353

Триодный способ катодно-плазменного азотирования деталей с отверстиями

Изобретение относится к химико-термической обработке, в частности к ионному азотированию. Способ включает азотирование при низком давлении с напряжением смещения, которое создают между деталью и горячим электродом. Вокруг вакуумной камеры создают вращающееся магнитное поле, амплитудное значение магнитной индукции которого определяют из соотношения: , где m - масса положительного иона, U - отрицате...

2279496

Устройство для химико-термической обработки деталей в несамостоятельном тлеющем разряде

Изобретение относится к области химико-термической обработки металлов, а именно к устройствам для обработки деталей в несамостоятельном тлеющем разряде и может быть использовано в машиностроении, автостроении и арматуростроении. Устройство содержит вакуумную камеру, подложку для размещения деталей, источник питания, соединенный отрицательным полюсом с подложкой, положительным - с корпусом камеры...

2355817

C23C14/42 - триодное распыление (C23C 14/35 имеет преимущество)

Патенты в этой категории