Устройство для катодного распыления

Устройство для катодного распыления

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

29GO65

Союз Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 25Х!1.1969 (№ 1351308/26-9) МПК С 23с 15/00 с присоединением заявки №

Приоритет

Номитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров

СССР "ДК 621.793.73 (088.8) Опубликовано 22.Х11.1970. Бюллетень № 2 за 1971

Дата опубликования описания 22.II.1971

Авторы изобрете шя

Б. А. Александров, Н, В. Рюмшина, В. В. Гришин, С. В. Шалимов и В. П, Чесноков

Заявитель

УСТРОЙСТВО ДЛЯ КАТОДНО ГО РАСПЫЛЕНИЯ.

Изобретение относится к области пленочной микроэлектроники и может быть использовано при производстве тонкопленочных микро, хем.

Известны устройства для катодного распылсни", содержащие натекатель, систему катод G3, анод, вспомогательный электрод, соединенный с плюсом источника постоянного напряжения или с источником переменного HBпряжения, и вакуумную камеру, внутри которой расположена карусель, выполненная в виде цилиндра, во внутренней полости которого пазмещены испаритель, а на внутренней поверхности — подложкодержатели.

Однако известные устройства не обеспечивают хорошей воспроизводности характеристик пленок и высокого качества.

С целью повышения качества наносимых пленок и улучшения воспроизводимости их характеристик в предлагаемом стройстве натекатель для напуска газа расположен в верхнем торце программно-вращающегося цилиндра, а откачное отверстие — в нижнем торце цилиндра.

На чертеже показано предлагаемое устройство для катодного распыления.

В вакуумной камере 1, служащей анодом, расположена программно-вращающаяся карусель 2, выполненная в виде полого цилиндра, на внутренней поверхности которого размещены электрически изолированные подложкодержатели 8 с подложками 4. Катоды 5, имеющие одно илп несколько отверстий, расположены во внутреннем пространстве цилиндра, вспо5 могательный электрод б размещен с нерабочей стороны «дырчатых» катодов и соединен с полюсом источника постоянного напряжения или источником переменного напряжения.

Натекатель 7 для напуска газа расположен

10 у верхнего торца цилиндра, а откачное отверстие 8 — с противоположной стороны. Катодный экран 9 предназначен для устранения распыления катода на его нерабочей стороне, а экран 10 служит для устранения попадания

15 частиц распыляемого материала на поверхность подложек, расположенных на соседних подложкодержателях.

Устройство работает следующим образом.

По достижении в вакуумной камере давле20 ния не выше 5 10 — лья рт. ст. через натекатель вводится рабочий газ, например аргон, и давление повышается до (1 — 4)

Х10 - л,я рт. ст.

К катодам прикладыв:IoT отрицательное

25 постоянное напряжение 2000 — 6000 в. На дополнительный электрод подают 50 — 500 в постоянного напряжения или 100 — 1000 в переменного напряжения, при этом положительные ионы аргона притягиваются потенциалом ка30 тода и бомбардируют его, т. е. происходит распыление его вещества. Распыленные атомы материала катода осаждаются па подложку.

Катод имеет дырчатую форму, что позволяет повысить качество и равномерность наносимых пленок за счет возможности уменьшить расстояние катод — подложка.

После нанесения необходимой толщины пленки карусель поворачивается на заданный угол, и напротив катодов располагаются другие подложкодержатели с закрепленными на них подложками.

Расположение подложкодержателей на внутренней поверхности цилиндрической карусели позволяет максимально использовать рабочий объем вакуумной камеры, что резко повышает производительность установки, Предмет изобретения

Устройство для катодного распыления, содержащее натекатель, систему катодов, анод, 5 вспомогательный электрод, соединенный с плюсом источника постоянного напряжения или с источником переменного напряжения, и вакуумную камеру, внутри которой расположена карусель, выполненная в виде цилиндра, 10 во внутренней полости которого размещены испаритель, а на внутренней поверхности подложкодержатели, отличающееся тем, что, с целью повышения качества наносимых пленок и улучшения воспроизводимости их харак15 теристик, натекатель для напуска газа расположен в верхнем торце программно-вращающегося цилиндра, в нижнем торце которого расположено откачное отверстие.

Составитель В. Василькевич

Редактор Т. И. Морозова Текред 3. Н. Тараненко Корректоры: О. М. Ковалева и Л. Б. Бадылама

Изд. № 78 Заказ 163)6 Тираж 473 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр, Сапунова, 2