Способ контроля дефектов слоев материалов

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

. i

ОП ИСАЙКЕ

ИЗОБРЕТЕН ЙЯ

Сони Соввтснит

Соииалистичвскин

Реслувлин

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬт,.ТВУ

Зависимое от авт. свидетельства №вЂ”

Заявлено 01.Ш.1971 (№ 1631439/26-25) с присоединением заявки №вЂ”

M Кл. С 01п 27/24

Кемитвт ло делам иааврвтеиий и открытий ври Совета Министров

GGQP

Приоритет—

Опубликовано 28.XI.1972. Вюллетен : № 36

Дата опубликования описания 3.1,19 3

УД1(621.315.592(088.8) Авторы изобретения

А. Е. Кравцов и М. А. Резников

Институт физики АН Украинской ССР

Заявитель

СПОСОБ КОНТРОЛЯ ДЕФЕКТОВ СЛОЕВ МАТЕРИАЛОВ

Предмет изобретения

)

Изобретение относится к области электронной техники, в частности к производству .полупроводниковых,приборов.

При производстве полупроводниковых прибо ров (диодов, транзисторов, интегральных схем и т. д.) методами планарной технологии предъявляются высокие требования к,качеству поверхности полупроводников и диэлекврических слоев, так,как дефекты слоев матсриалов оказывают значительное .влияние на .разброс параметров, .надежность и выход годных полупроводниковых приборов.

Известен электролитический способ контроля дефектов диэлектрических слоев на лолу,проводн иковых или металлических подложках, заключающийся,в том, что на полупроводниковую подложку с исследуемой диэлек1 рической пленкой:накладывают фотобумагу, покрытую эмульсионным слоем, и всю систему, расттоложенную между двумя элекпро@ами, помещают в электролит (воду) . Hpè прохождении тока через систему ионы серебра фотоэмульсии восстанавливаются на порах и других проводящих дефектах. Однако с помощью известного способа .невозможно конзролировать электронепроводящие дефекты, имеющиеся на поверхности и в .приповерхностном слое диэлектриков,,полупроводникол и металлов.

Целью изобретения является воз можность од Оъременного получения Изображения про2 водящих и непрозодящих дефектов полупроводников, диэлектриков и металлов.

Это достигается тем, что регистрирующий материал наносят на диэлектрическую подложку и ко всей системе прикладывают элект рическос поле по величине де ниже 104 в/сл, Сущность способа заключается в том, что образец накладывают исследуемой поверностью па эмульсионный слой фотопластпны, Io например, стеклянной, помещают эту систе му меж ду .Плоскими металлическими электродамп и прикладывают к ним нацряжение, Независимо от полярности происходит, разложение состава эмульс:юнного слоя в местах наиоолее

15 сильного элекпрического поля, что соответствует дефектаи и неоднородностям на поверхности исследуемого образца. В качестве эмульc:IoIIного слоя может быть использован состаз на основе Ag Br.

2р После проявления па фотопластине появляются изображения поверхности с черными точками, соответствующими пеодиородпостям и дефекта м.

Способ контроля дефектов слоев материалов путем наложения образца исследуемой поверхност: а регистрирующий маторпал,,например

Зр фотоэмульсионный слой, и приложения к иссле360599

Состапитсль Л. Шварцман

Текред Л. Богданова

Корректор В. )Колудева

Редактор A. Батыгин

Изд, № 1826 Заказ 5996 Тираж 406 Подписпос

ЦНИИ!!1! Комитста по делам изобретений и открытий при Совстс Министров СССР

Москва, 7К-35, Раушская наб., д. 4)5

Загорская типография дуемой системе напряжения, отлича ощийся тем, что, с целью одновременного получения изображений проводящих и непроводящих дефектов и расширения области применения, ре4 гистрирующий материал наносят на диэлектрическую подложку и прикладывают электрическое поле по величине не ниже 104 в/см.