Устройство для катодного распыления

Устройство для катодного распыления

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

О П И С А Н И Е 38806I

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социнпистицюских

1>аспубпик

Зависимое от авт. свидетельства №

М. Кл. С 23с 15/00

Зая??ле??о 01.VIil.1970 (№ 1157005/26-9) с присоединением заявки №

Приаритет

Опубликовано 22.VI.1973. Бюллетень № 28

Дата опубликования описания 10.Х.1973

Государственный комитет

Совета Министров СССР ое делам наооретений и открытий

УДК 539.234.002.5(088.8) Авторы изобретения

Г. Ф. Васильев и Г. И. Лабудин

Заявитель

УСТРОЙСТВО ДЛЯ КАТОДНОГО РАС11ЫЛЕННЯ

Изобретение относится к области пленочной электроники и может быть использовано при изготовле??ии катодпым распылением то?? ких пленок различных материалов.

Известны устройства для катодного распыления, содержащие вакуумную камеру с размещенными в ней анодом-подложкодержателем в виде плоскости и расгыляемым катодом.

Цель изобретения — повышение равномерности наносимых на подложку слоев.

Цель достигается тем, что катод выполнен в виде двух или более цилиндров, осп которых расположены в одной плоскости параллельно друг другу и плоскости анода-подложкодержателя.

Схема устройства изображена на чертеже.

Устройство содер>кит цилиндрический катод 1, держатель катода 2, анод 8, экран 4, высоковольтный токоввод 5, l — расстояние между катодами, d — диаметр катода, h — расстояние между анодом и осевой линией катодов, и — число катодов.

В цилиндрическом катоде 1 высверливается отверстие для держателя 2. Для получения более хорошего теплового и электрического контакта держатель 2 может быть припаяв к катоду 1. Оси отдельных цилиндрических катодов расположены параллельно в одной плоскости.

Анод 3 имеет форму плоскости, параллельной плоскосг? катодов н расположенной с одii0li и, и с обеих сторон;с. Экран 4 защищает от распыления держатель 2 катода 1, высоко5 гольтнь:й то:оввод 5 подает минус высокого напряжения .;"; катод 1.

Отдельные цилиндрические катоды разме?цаются с интервалом l. Причем при данных

l — d условиях распыления должно быть боль2 ше размера темного катод ного пространства.

Расстояние lг ме;кду анодом > и осевой линией расположения катодов I также больше размеl>3 тсмного катодного пространства. Более

15 точно это расстоя??ие определяется экспериментально для получения равномср??ого рас??рсделе???1я распыляемого материала на протяжс ???и л? tit?tit 1(11 — 1) .

20 J-Ja анод >, служащий подло>ккодср>кателсм, помещаются подложки (на чертеже не показаны). В камере, где расположено устройство для распыления, создаются технологические условия для распыления, к высоковольтному

25 токовводу 5 подается t. t.сокое напряжение.

При распылении материала катода 1 на аноде

> образуется равномерный слой вдоль линии расположения катодов при определенном расстоянии между анодом и плоскостью като30 дов. Равномерность напыленного слоя вдоль

388".61

Составитель В. Верченко

Редактор Ц. Мазуронок Техред Е. Борисова Корректор Л. Царькова

Заказ 2758/4 Изд. № 1685 Тираж 826 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

Москва, Я-35, Раушская наб., 4/5

Типография, пр. Сапунова. 2 оси катода достигается г.ыбором катодов соответствующей длины.

Предмет изобретения

Устройство для катодного распыления, содержащее вакуумную камеру с размещенными в ней анодом-подложкодержателем в виде плоскости и распыляемым катодом, отличаюи1ееся тем, что, с целью повышения равномерцссти наносимых „:а по 1ложку слоев, катод выполнен ь виде двух или более цилиндров, оси которых расположены в одной плоское-,и параллельно друг другу и плоскости анода-подложкодержателя.