Элемент для размещения подложек в горизонтальной камере

Элемент для размещения подложек в горизонтальной камере

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕН Ия

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (II) 444276

Союз Советских

Социалистических

Республик (61) Зависимое от авт. свидетельства (22) Заявлено 17.05.72 (21) 1785867/26-25 с присоединением заявки № (32) Приоритет

Опубликовано 25.09.74. Бюллетень № 35

Дата опубликования описания 01.04.75 (51) М, Кл. Н Oll 7/68

Государственный комитет

Совета Министров СССР по делам изобретений н открытий (53) УДК 621.382(088.8) (72) Авторы изобретения

Ю, И. Борзаков, В, И. Панкин, А, М. Черников н В. В, Чернышов (71) Заявитель (54) ЭЛЕМЕНТ ДЛЯ РАЗМЕЩЕНИЯ ПОДЛОЖЕК

В ГОРИЗОНТАЛЪНОИ КАМЕРЕ

Изобретение относится к производству полупроводников.

Известен элемент для размещения подложек в горизонтальной камере преимущественно при окислении и эпитаксиальном наращивании слоев, выполненный из тугоплавкого материала с фиксаторами для подложек. Однако этот элемент характеризуется большим расходом тугоплавкого материала для изготовления элемента, так как две трети материала заготовки уходит в отходы; невозможностью регулирования наклона боковых поверхностей относительно газового потока; необходимостью изготовления нового нагревателя в случае большого увеличения диаметра пластин или размещения их в два ряда; температурным разбросом, обусловленным конструкцией и приводящим к разбросу по толщине наносимых пленок.

Цель изобретения является упрощение конструкции элемента и повышение его универсальности.

Цель достигается тем, что элемент выполнен в виде.плоского основания, на котором смонтировано не менее двух подставок для размещения съемных боковых стенок и рассекатель газового потока. Подставки снаожены скосами по боковым сторонам и выполнены разной ширины.На чертеже схематически изображен предлагаемый элемент, общий вид.

Элемент включает в себя основание 1, на котором смонтированы рассекатель 2 и под5 ставки 3 и 4, имеющие скосы 5 на боковых сторонах для более надежного фиксирования уложеHHbIx íà них съемных боковых стенок 6.

На внешней поверхности стенок 6 имеются штыри 7 для удержания полупроводниковых

I0 пластин 8. Для загрузки в печь и выгрузки из нее на основании 1 элемента имеется отверстие 9.

Подготовленные для обработки пластины 8 укладывают на поверхность боковых стенок 6, 15 которые, в свою очередь, укладывают на боковые стороны подставок 3 и 4. На поверхности боковых стенок 6 пластины 8 удерживаются с помощью штырей 7, а сами боковые стенки

6 надежно удерживаются на подставках 3 и 4

20 за счет скосов 5. Технологическим крючком, вводимым в отверстие 9 на основании 1, элемент вместе с размещенными на нем пластинами 8 вводят в рабочий объем горизонтальной камеры установки для эпитаксиа IbHОI

25 наращивания. В процессе нанесения эпитаксиального слоя входящий в камеру газовый поток разделяется рассекателем 2 на два потока, проходящие над поверхност.-.;о пластин.

При этом Оптимальный угол наклона пластин

30 по отношению к газовому потоку обеспечнва444276

Составитель Г. Петрова

Редактор 3, Твердохлебова Техред М. Семенов Корректор О. Тюрина

Заказ 700/7 Изд. ¹ 398 Тираж 760 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

Москва, 7Ê-3о, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2 ется за счет того, что подставка 4 по ширине больше, чем подставка 3.

Предмет изобретения

Элемент для размещения подложек в горизонтальной камере преимущественно при окислении и эпитаксиальном наращивании слоев, изготовленный из тугоплавкого материала с фиксаторами для подложек, отличающийся тем, что, с целью упрощения конструкции и повышения универсальности, элемент выполнен в виде плоского основания, на котором

5 смонтировано не менее двух подставок со скосами с боковых сторон для размещения съемных боковых стенок и рассекатель газового потока.