Установка для термической обработки полимерных пленок на плоских подложках

Установка для термической обработки полимерных пленок на плоских подложках

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ л11 g)934/

Сева Советских

Саллллиотических

Ресиублик (61) Дополнительное к авт, свид-ву (22) Заявлено 27.12.73 (21) 1980571/24-6 с присоединением заявки № (23) Приоритет

Опубликовано 30.04.76. Бюллетень ¹ 16

Дата опубликования описания 04.06.76 (51) М, Кл. - Е 26В 3 30

В 05D 3/02

F 26В 15/04

Государственный комитет

Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий (53) УДК 66.047.786. .435." (088.8) (72, Авторы изобретения

Л. В. Введенский, Ю. И. Прохоров и А. Т. Буравцев (71) Заявитель (54) УСТАНОВКА ДЛЯ ТЕРМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ

ПОЛИМЕРНЫХ ПЛЕНОК НА ПЛОСКИХ ПОДЛОЖКАХ а р аспределитель например, в виде

Изобретение относится к установкам для термической обработки, сушки и полимеризации полимерных пленок, нанесенных на керамические, стеклянные или полупроводниковые плоские подложки, при производстве полупроводниковых приборов, монолитных интегральных схем и пассивных плат.

Известны установки для термической обработки и сушки тонких пленок, содержащие камеру, разделенную светофильтром на отсеки, один из которых ооорудован инфракрасными (ИК) излучателями, а в другом размещена платформа с обрабатываемыми изделиями, причем платформа выполнена âðàщающейся.

Однако такие установки недостаточно выравнивают и распределяют энергию источников ИК-излучения по подложке, а также в процессе термообработки не создаются условия уплотнения пленки и не улучшается адгезионная способность пленки к поверхности подложки.

Цель изобретения — улучшение качества тер мообр аботки.

Поставленная цель достигается тем, что платформа по периферии снабжена буртом, направленным в сгорону источника и имеющим на внутренней поверхности углубления, соответствующие форме подложек, и отверстия. через которые полость камеры сообщеня с откачной системой, выполнен вращающимся, конуса.

На фиг. 1 схематично изображена установ5 ка для термической обработки полимернь1х пленок на подложках, общий вид; ня фиг.

2 — разрез по А — А на фиг. 1.

Установка для термической обработки по10 лимерных пленок на плоских подложках содержит платформу 1 с буртом 2.

На внутренней поверхности бурта 2 расположены углубления 3, соответствующие форме подложки 1. Углубления 3 отверстиями 5

15 сообщаются с полостью вакуумного коллектора 6 и далее переходят в замкнутый контур ресивера 7.

В центре платформы 1 вертикально установлен распределитель лучистого теплового

20 потока, выполненный, например, в виде конуса 8, основание которого размещено в отверстии платформы 1 совместно с приводом.

Устаногкя также cîäåðæèò камеру 9, в ко25 торой по вертикальной оси смонтирован рефлектор 10 с источником инфракрасного излучения 11. В каче=твс источника ИК-излучения 11 могут быть использованы зеркальные сушильные лампы или галогенные лампы ча30 кяливания.

512349

Термическая обработка полимерных пленок на ситалловых подложках осуществляется следующим обр азом.

Подложки 4 с полимерными пленками устанавливаются на платформу 1. Создается небольшое разрежение в полости, и подложки

4 плотно прижимаются к бурту 2 платформы

1. Платформе 1 придается вращение с линейной скоростью 50 — 100 м/сек. Во время вращения платформы 1 подложки 4 удерживаются в вертикальном положении благодаря воздействию центробежных сил, Следовательно, откачная система по время вращения платформы 1 может быть отключена.

Распределитель лучистого теплового потока (конус 8) имеет независимый от платформы 1 привод вращения. Целесообразнее вращать распределитель и платформу в противоположные стороны, так как при этом частота модуляции инфракрасного излучения (в случае равенства линейных скоростей) различными участками отражающих поверхностей увеличивается вдвое, а следовательно, степень равномерности лучистого потока на подложках также увеличивается, следствием чего является выравнивание температуры по подложке.

Лучистый поток от источника ИК-излучения

11, отразившись от поверхности распределителя лучистого теплового потока, попадает на подложку 4.

Таким образом, на полимерную пленку одновременно воздействует ИК-излучение от

5 источника 11 и равномерно распределенное усилие, возникающее от воздействия центробежных сил при вращении платформы 1.

Формула изобретения

Установка для термической обработки полимерных пленок на плоских подложках, пре15 имущественно сушки, содержащая камеру, подключенную к откачной .системе, и установленные по вертикальной оси камеры вращающуюся платформу, несущую изделия, источник инфракрасного излучения с рефлектором и распределитель лучистого теплового потока, отлич ающая ся тем, что, с целью улучшения качества термообработки, платформа по периферии снабжена буртом, направленным в сторону источника и имеющим

25 на внутренней поверхности углубления, соответствующие форме подложек, и отверстия, через которые полость камеры сообщена с откачной системой, а распределитель выполнен вращающимся, например, в виде конуса.

512349

Фиг. 2

Составитель С. Сенковенко

Техред А. Камышникова Корректор T. Добровольская

Редактор Е, Дайч

Заказ 1208!9 Изд. М. 1293 Тираж 864 Подппс:! ое

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров CC Ð по делам изобретений и открытий

113035, Москва, jK-35, Раушская наб., д. 4 5

Типография. пр. Сапунова, 2