Способ изготовления кремниевых фотопреобразователей

Способ изготовления кремниевых фотопреобразователей

Реферат

 

1. Способ изготовления кремниевых фотопреобразователей с диффузионно-легированным слоем на фронтальной поверхности и изоотипным барьером на тыльной поверхности, состоящий в резке, механико-химической обработке кремниевых пластин, формировании n⁺ и p⁺-слоев и нанесении контактов, отличающийся тем, что, с целью повышения КПД фотопреобразователей, тыльную поверхность пластин бомбардируют ионами примеси, обеспечивающей проводимость того же типа, что и в исходном состоянии, например бора, с энергией ионов 20-60 кэв дозой от 800 до 2000 мккул/см² и проводят отжиг легированного ионами слоя на тыльной поверхности при температуре 830-1030^oC в потоке газа, содержащего примесь, обеспечивающую проводимость противоположного типа исходному состоянию, например фосфор, при одновременном формировании диффузионно-легированного слоя на фронтальной поверхности в течение 4-40 мин.

2. Способ по п.1, отличающийся тем, что отжиг проводят последовательно при подаче в течение 3-30 мин газа, не содержащего диффузант, при подаче в течение 4-40 мин газа с диффузантом и при подаче в течение до 20 мин газа для диффузанта.