Способ очистки подложек
Патент 954916
Авторы
Классы МПК
Способ очистки подложек
Иллюстрации
Реферат
О П И С А Н И Е < 954916
ИЗОБРЕТЕНИЯ
К, АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
Союз Советских
Соцналнстнческнк
Республик (61) Дополнительное к авт. свил-ву— (22) 3 8 Н0 25 ° 05. 78 (21) 2620689/23-04 с присоединением заявки М— (23) Приоритет
Опубликовано 30 . 08. 82. Бюллетень М 32
Дата опубликования описания 30 . 08 . 82 (51)М. Кл.
G 03 С 5/00
Гюеуюрсткнный квинтет
СССР но делам изобретений н открытий (53) УЙК 771 ° 5 (088.8) (72) Авторы изобретения
Ю. М. Прохоцкий, А. А. Волков и Н. Г. Ушомиоский (71) Заявитель
Изобретение относится к способам очистки подложек от поверхностных загрязнений и может быть использовано при изготовлении фотошаблонов в фотолитографических процессах.
Известны способы дчистки фотоплас5 тин и фотошаблонов, используемых в фофотолитографическом процессе, путем обдува их сжатым воздухом, удаления загрязнений кисточкой, а также нейтрализации влияния. загрязнений путем использования проявления с обращением (11 .
Указанные способы не обеспечивают необходимой степени очистки и значительно усложняют фотохимическую обработку, не решая полностью проблемы очистки фотопластин и фотошаблонов.
Каиболее близким к предлагаемому го является способ очистки подложек (стеклянных, кварцевых, ситалловых, металлических) путем нанесения на поверхность подложки пленкообразующего лака на основе нитроцеллюлоэы, высушивания его и последующего отрывания с подложки образовавшейся пленки f2) . о
Указанный способ исполнзуют в технологии вакуумного нанесения тонких пленок при очистке и консервации по" верхности подложек. Однако при очистке таким способом подложек фотошаблонов на галогенидсеребряных желатиновых фотоматериалах, имеющих небольшую механическую прочность и подверженных воздействию растворителей, наблюдает-.. ся разрушение эмульсионного слоя фотошаблонов, что приводит к снижению выхода годных изделий.
Цель изобретения - повьнвение выхода годных изделий при изготовлении фотсниаблонов.
Поставленная цель достигается тем, что согласно способу очистки подложек от -поверхностных загрязнений путем нанесения на поверхность подложки
954916 формула изобретения
3 пленкообразующего лака, высушивания его и последующего отрывания образоваешейся пленки, в качестве подложки используют эмульсионный слой фотоматериала, перед операцией нанесения лака желатиновый эмульсионный слой фотоматериала раздубливают, в каче- стве пленкообразующего лака используют лак на основе перхлорвиниловой смолы, а отрывание высушенной пленки 10 лака производят при смачивании границы раздела пленки лака и желатинового эмульсионного слоя этиловым спиртом.
Перед нанесением лака фотоматериал (фотопластина) должна быть опре- 15 деленным образом подготовлена, чтобы обеспечить возможность удаления не только загрязнений> лежащих на поверхности, но .и загрязнений, внедренных в поверхность. Это достигается щ предварительным раздубливанием эмульсионного светочувствительного слоя при обработке в течение 10-15 мин в 2ь-ном растворе уксусной кислоты.
Высушенная пленка лака недостаточно р хорошо отделяется от поверхности эмульсионного слоя. Чтобы облегчить ее отделение, процесс проводят при постоянном смачивании этиловым спиртом границы раздела лаковой пленки и светочувствительного слоя.
Пример 1. Высокоразрешающие галогенидосеребряные желатиновые эмульсионные фотопластины типа "Kodak
HRP" из партии, прошедшей срок хране- З5 ния 3 года (гарантийный срок хранения
1 год) и забракованной из-за повышенной загрязненности поверхности фотопластин, выдерживают в 24-ном раство40 ре уксусной кислоты в течение 15 мин при комнатной температуре, споласкивают в этиловом спирте и покрывают пленкой стандартного лака ХСЛ, Гост
7313-55, вес.<:
Перхлорвиниловая смола 20
Смесь растворителей бутилацетат (12):ацетон
lf (26):толуол (62) До 100
Высушенную (не менее 1 ч при комнатной температуре) пленку лака удаляют путем отрывания с одного края при смачивании границы раздела пленка эмульсионный слой этиловым спиртом, Выход годных контрольных фотошаблонов интегральной схемы увеличен с 1 3 до 55
34,8>;.
Пример 2. Аналогичным образом лаком состава, вес. >:
Перхлорвиниловая смола 30
Трикрезилфосфат (смачиватель) 2
Трихлорэтилен (растворитель) До 100 обрабатывают галогенидосеребряные желатиновые эмульсионные фотопластины Nilleask, Agfa- ечаегй. При удалении (отрываний) пленки лака границу раздела смачивают этиловым спиртом. Выход годных фотошаблонов увеличен в 1,5-2,0 раза.
Повышение степени очистки позволяет значительно увеличить коэффициент использования фотопластин (так как в силу специфики технологии изготовления фотопластин около 90 всех механических загрязнений эмульсионного слоя находится на поверхности или частично внедрены в нее), который в случае изготовления прецизионных фотошаблонов не превышает 0,3 (исключительно из-за дефектности, вызываемой механическими загрязнениями) увеl .1ичить время жизни готовых фотошаб. лонов и обеспечить возможность их частичной реставрации, использовать при изготовлении фотошаблонов как фотопластин, забракованных по механическим загрязнениям, так и фотопластин,загрязнившихся в процессе сверхдопускаемого гарантией срока. Все вышесказанное приобретает особое значение в связи с дефицитом и высокой стоимостью специальныХ высокоразрешающих фотоматериалов для изготовления фотошаблонов. Предлагаемый способ очистки (и консервации) поверхности фотопластин и фотошаблонов может быть использован как при производстве и хранении фотопластин, так и при изготовлении и использовании фотошаблонов.
Способ очистки подложек от поверхностных загрязнений путем нанесения на поверхность подложки пленкообразующего лака, высушивания его и последующего отрывания образовавшейся пленки, отличающийся тем, что, с целью повышения выхода годных изделий при изготовлении фотошаблонов на галогенидсеребряных желатиновых фотоматериалах, в качестве подложки используют эмульсионный спой
954916
Составитель А. Круглов
Редактор И. Тыкей Техред М. Гергель Корректор С. Шекмар
Тираж 488 Подписное
ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий
113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5
Заказ 6428/46
Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул,. Проектная, 4
5 фотоматериала, перед операцией нанесения лака желатиновый эмульсионный слой фотоматериала раздубливают, в качестве пленкообразующего лака ис" пользуют лак на основе перхлорвиниловой смолы, а отрывание высушенной пленки лака производят при смачивании границы раздела пленки лака и желатинового эмульсионного слоя этиловым спиртом.
Источники информации, 1О принятые во внимание при экспертизе
1. Александрова Ю. А. и др.
Использование проявления с обращением при изготовлении прецизи- онных фотошаблонов. Электронная о техника", 1971, сер. 14, вып. 1, с. 121 °
2. Технология тонких пленок. Под ред. Майселла Л. и Глэнга P. М., "Советское радио", 1977, с. 542 (прототип).