ДЖАЯРАМАН Сайкумар (US)

 Изобретение относится к радиационно-чувствительной фоторезистной композиции. Описывается фоторезистная композиция, содержащая генерирующий кислоту фотоинициатор, растворитель, необязательно, ингибитор растворения и полимер, содержащий повторяющиеся полициклические звенья, содержащие кислотно-лабильные группы, с молекулярной массой от около 500 до около 1000000, являющийся продуктом полиме...

 Изобретение относится к полициклическому полимеру, используемому в качестве фоторезиста при изготовлении интегральных плат. Описывается способ получения полициклического полимера и способ присоединения лиганда-акцептора электронов к концевому участку полициклического полимера полимеризацией мономерной композиции, содержащей кислотный фотоинициатор и полициклический полимер, содержащий пов...

 Изобретение относится к радиационно-чувствительной фоторезистной композиции. Описывается фоторезистная композиция, содержащая кислотный фотоинициатор, необязательно ингибитор растворения и сополимер, который содержит, по крайней мере, два вида повторяющихся полициклических звеньев, один из которых содержит боковую кислотно-лабильную группу, а другой содержит боковую полярную функциональну...