Комаров Валерий Николаевич (RU)

Изобретение относится к производству изделий электронной техники и может быть использовано, например, на операциях двухсторонней очистки пластин с помощью щеток и мегазвука. Устройство содержит установленные на основании разгрузочную и загрузочную кассеты, два механизма шагового перемещения их, механизм вертикального перемещения пластин из разгрузочной кассеты, механизм вертикального перемещения п...

Изобретение относится к производству изделий электронной техники и может быть использовано, например, на операциях очистки полупроводниковых пластин с помощью щеток и мегазвука. Сущность изобретения: устройство для обработки полупроводниковых пластин содержит загрузочную и разгрузочную кассеты, механизмы их вертикального перемещения, механизм извлечения пластины из кассеты, механизм загрузки обраб...

Изобретение относится к производству изделий электронной техники и может быть использовано для двухсторонней обработки пластин квадратной формы. Устройство для двухсторонней обработки пластин, например фотошаблонов, содержит установленные на основании разгрузочную и загрузочную кассеты, механизмы шагового перемещения их, первый и второй независимые транспортеры, блок двухсторонней гидромеханическо...

Изобретение относится к производству изделий электронной техники и может быть использовано для двухсторонней обработки стеклянных подложек квадратной или прямоугольной формы, используемых, например, в производстве при изготовлении фотошаблонов, а также жидкокристаллических экранов (ЖКЭ). Устройство содержит разгрузочную и приемную кассеты для подложек, установленные соответственно на механизмах...

Изобретение относится к технике индивидуальной обработки подложек и может быть использовано при производстве изделий электронной техники, в частности при отмывке и сушке стеклянных подложек для жидкокристаллических экранов, полупроводниковых пластин и фотошаблонов. Сущность изобретения: в способе отмывки и сушки подложек подложки ступенчато опускают в ванну отмывки деионизованной водой и сканирую...

Изобретение относится к технике полупроводникового производства и может быть использовано при нанесении фоторезиста на полупроводниковые пластины, а также другие подложки в процессе выполнения операций фотолитографии. Сущность изобретения: устройство для нанесения фоторезиста на подложки, содержащее камеру для нанесения, подложкодержатель с приводом его вращения, установленный в ванне для нанесен...

Изобретение относится к производству полупроводниковых приборов и может быть использовано для отмывки и сушки полупроводниковых пластин в процессе выполнения химической обработки пластин перед проведением операции фотолитографии. Устройство содержит камеру обработки с крышкой и с размещенными в ней форсунками для подачи моющей жидкости и сушительного агента, ротор центрифуги, установленный под уг...

Изобретение относится к области обработки металлов давлением, в частности к технике перфорирования тонкой металлической ленты из драгоценного металла (золото, серебро), и может быть использовано для изготовления коммутационных шин фотопреобразователей (ФП) при сборке панелей солнечных батарей (СБ), а так же в полупроводниковом производстве в технологии изготовления микро- и наносистем. Механизм...

Изобретение относится к технике индивидуальной обработки подложек и может быть использовано при производстве изделий электронной техники. Сущность изобретения заключается в том, что в способе отмывки и сушки подложек каждую подложку устанавливают на носитель, опускают в ванну отмывки с деионизованной водой до полного погружения подложки, затем медленно поднимают из воды в камеру сушки, отмывая е...