ТАДА Исао (JP)

Изобретение относится к устройству плазмохимического осаждения из паровой фазы намоточного типа для образования слоя покрытия на пленке. Пленка (22) поддерживается между парой подвижных барабанов, расположенных на стороне входа и стороне выхода участка осаждения (25) по отношению к направлению перемещения пленки (22). Затем пленку (22) заставляют перемещаться линейно в место осаждения. Расстояни...

Изобретение относится к конвейерным устройствам для перемещения пленочной основы при вакуумной обработке, в частности вакуумном осаждении, с последовательным разматыванием и сматыванием пленочной основы. Устройство (10) содержит разматывающий (12) и сматывающий (14) ролики и механизм перемещения. Механизм перемещения включает направляющий узел (20), содержащий направляющий ролик (17А) и вспомогат...

Установка предназначена для вакуумного осаждения металлического слоя на материал основы. Установка (10) включает в себя захватывающее заряды тело (25), размещенное между охлаждающим полым роликом (14) и блоком нейтрализации (23). Захватывающее заряды тело (25) захватывает заряженные частицы из блока нейтрализации (23) к полому ролику (14). Соответственно, натекшие из блока нейтрализации (23) заря...

Изобретение относится к устройству для вакуумной плазменной обработки гибкого обрабатываемого целевого изделия. Камера (15) способна поддерживать состояние вакуума. Первый электрод (18) в форме ролика установлен в камере (15) с возможностью вращения. Электрод (18) имеет часть, с которой гибкое обрабатываемое целевое изделие (5) находится в контакте, и часть, с которой изделие (5) не находится в...