PatentDB.ru — поиск по патентным документам

Галуцкий Валерий Викторович (RU)

Изобретатель Галуцкий Валерий Викторович (RU) является автором следующих патентов:

Способ выращивания монокристаллов с заданным распределением примесей по его длине

Способ выращивания монокристаллов с заданным распределением примесей по его длине

Изобретение относится к технике получения монокристаллов полупроводниковых и диэлектрических соединений и их твердых растворов в виде слитка с заданным наперед распределением состава по длине слитка (концентрационно-профилированных слитков) и может найти применение в производстве монокристаллов. Способ включает вытягивание монокристалла 10 из расплава 13 с заданной концентрацией основных компонен...

2402646

Монокристаллический материал с неоднородным распределением оптических примесей для активного лазерного элемента

Монокристаллический материал с неоднородным распределением оптических примесей для активного лазерного элемента

Изобретение относится к области лазерной техники и касается монокристаллического материала с неоднородным распределением оптических примесей по заданному закону вдоль активного лазерного элемента со следующей структурной формулой: где где z - пространственная координата, направленная вдоль длины кристалла и определяющая изменение концентрационного профиля ионов эрбия и...

2591253

Монокристаллический материал для дискового лазера

Монокристаллический материал для дискового лазера

Изобретение относится к области лазерной техники и касается монокристаллического материала для дисковых лазеров. Монокристаллический материал выполнен на основе алюмоиттриевого граната, активированного ионами иттербия. При этом исходные компоненты взяты в соответствии со структурной формулой Yba(z):Y3-a(z)Al5O12, где - функция изменения концентрационного профиля, z - ось направления...

2591257

Градиентный периодически поляризованный ниобат лития

Градиентный периодически поляризованный ниобат лития

Изобретение относится к лазерной технике. Монокристаллический материал на основе ниобата лития, с неоднородным распределением лития по заданному закону вдоль активного лазерного элемента, характеризуется следующей структурной формулой:Lia(z)Nbb(z)O3 где: a(z)=p*F(z), где 0,99≤a(z)≤1; b(z)=a(z)/R, где R=Li/Nb, где 0,93≤b(z)≤0,96; F(z)=th(z); p=49,98 ат. % или 0,9996 ат. доли; R=k*x, 0,94≤x≤0,96, z...

2614199